[發明專利]一種帶有自清理機構的等厚精面平磨裝置

有效

• 申請號: 202110586059.3
• 申請日: 2021-05-27
• 公開（公告）號: CN113500514B
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發明（設計）人: 楊章生
• 申請（專利權）人: 南京如意刀模有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B37/12;B24B37/27;B24B37/34;B24B55/06;B24B55/12;B24B57/02
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本發明涉及平磨裝置技術領域，具體為一種帶有自清理機構的等厚精面平磨裝置，所述平磨設備包括工作臺支撐底座，所述工作臺支撐底座的一側連接有電控箱，所述電控箱的頂端連接有支撐架，所述支撐架的頂端連接有嵌入式控制面板，所述工作臺支撐底座的正面連接有調節旋鈕，在進行加工期間，需要通過打磨片對代加工的工件進行打磨處理，本發明在打磨期間通過設置的自清潔大盤能對打磨片上端殘留的打磨液進行清潔，能將多余的研磨液進行及時的回收處理，通過清潔能避免研磨液的飛濺，保證了施工環境的衛生，在進行平磨處理能節省更多的時間，進而加快了工作效率，保證了施工場所整潔還節約了資源成本。

技術領域

本發明涉及平磨裝置技術領域，具體為一種帶有自清理機構的等厚精面平磨裝置。

背景技術

研磨機是用涂上或嵌入磨料的研具對工件表面進行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。用于材料的單面研磨、拋光，平面研磨機為精密研磨拋光設備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉動，修正輪帶動工件自轉，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉磨擦，來達到研磨拋光目的。產生磨削作用的磨料顆粒有兩種來源，一種來自于不斷外加；另一種方法是將磨料顆粒固定在研磨盤中。

在現有技術中，平磨機在進行加工期間，實現高效高精度的加工，在進行高精度加工期間，通過添加不同成分的研磨液進行輔助研磨，通過研磨液提升了研磨的精度，以及待加工件的平整度，在此期間，一部分的研磨液在離心力的作用下飛濺開來，這樣會導致加工場場所的不整潔，造成施工場地的污染，其中飛濺的研磨液會造成浪費，無法進行回收處理再次利用，最終造成經濟成本的損失，因此亟需設計一種帶有自清理機構的等厚精面平磨裝置來解決上述問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種帶有自清理機構的等厚精面平磨裝置，以解決上述背景技術中提出的平磨裝置加工期間研磨液會飛濺的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種帶有自清理機構的等厚精面平磨裝置，包括平磨設備，所述平磨設備包括工作臺支撐底座，所述工作臺支撐底座的一側連接有電控箱，所述電控箱的頂端連接有支撐架，所述支撐架的頂端連接有嵌入式控制面板，所述工作臺支撐底座的正面連接有調節旋鈕，所述工作臺支撐底座的頂端連接有操作平臺，所述工作臺支撐底座的一側連接有支撐大臂，所述支撐大臂的上端設置有打磨片，所述支撐大臂的內部嵌入連接有金屬高度調節塊，所述支撐大臂的側面嵌入連接有驅動傳動結構，所述驅動傳動結構包括調節凹槽，所述支撐大臂的側面嵌入連接有調節凹槽，所述金屬高度調節塊的一側連接有電機，所述支撐大臂的嵌入連接有卡合齒片，所述金屬高度調節塊的前端連接有防護罩，所述防護罩的一側連接有自清潔結構，所述自清潔結構包括自清潔大盤，所述防護罩的一側連接有自清潔大盤，所述支撐大臂的一側連接有擋板，所述自清潔大盤的內壁嵌入連接有連接防滑環，所述自清潔大盤的內部插設有支撐連接桿，所述自清潔大盤的內壁連接有清潔支桿，所述清潔支桿的一側連接有清潔刮刷頭，所述擋板的上端開設有引導凹槽，所述引導凹槽的內部開設有滴漏孔洞。

優選的，所述金屬高度調節塊的底端連接有卡合齒片，所述金屬高度調節塊的頂端連接有打磨片和的防護罩，所述金屬高度調節塊和防護罩滑動連接。

優選的，所述電機的輸出端連接有打磨片，所述防護罩包裹在防護罩的內部。

優選的，所述擋板傾斜設置在自清潔大盤的下方，所述擋板的前端高度低于打磨片的最底端的高度。

優選的，所述自清潔大盤遠離打磨片的一側連接有清潔轉移組件，所述清潔轉移組件包括收集倉體，所述打磨片的遠離打磨片的一側連接有收集倉體，所述收集倉體內部中空，所述收集倉體的縱切面為U字型。

優選的，所述收集倉體的內部開設有滑槽，所述收集倉體的內部嵌入連接有支撐彈簧，所述支撐彈簧嵌入在滑槽的內部，且滑槽的內部嵌入連接有滑動支桿，所述滑動支桿的頂端連接有轉動盤，所述轉動盤的上端連接有吸收塊。