[發(fā)明專利]使用感應加熱氣體的用于光譜法的電噴霧離子源在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110585509.7 | 申請日: | 2021-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN113745089A | 公開(公告)日: | 2021-12-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 費利奇安·蒙泰安;阿尼爾·馬瓦努爾 | 申請(專利權(quán))人: | 布魯克科學有限公司 |
| 主分類號: | H01J49/16 | 分類號: | H01J49/16;H01J49/04 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 顧紅霞;張蕓 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 使用 感應 加熱 氣體 用于 光譜 噴霧 離子源 | ||
1.一種用于產(chǎn)生待進行分析研究的去溶劑化離子的電噴霧離子源,所述電噴霧離子源具有供應有噴霧溶液的噴霧毛細管、用于在所述噴霧毛細管的末端處產(chǎn)生電吸引場以建立用于電噴霧的條件的第一電源、以及有助于產(chǎn)生去溶劑化離子的氣體供應裝置,并且所述電噴霧離子源還包括用于將氣體朝向所述噴霧溶液引導的加熱裝置、在所述加熱裝置附近的具有多個繞線的導電元件以及第二電源,所述第二電源連接到具有多個繞線的所述導電元件,以通過電磁感應在所述加熱裝置中產(chǎn)生熱量,以使得所述氣體在通向所述噴霧溶液的途中通過所述加熱裝置時被加熱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電噴霧離子源,其中,所述第二電源是輸送頻率在1千赫與1千兆赫之間的交流電的低電壓高電流AC電源。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電噴霧離子源,其中,所述導電元件呈螺旋狀纏繞,并且所述加熱裝置位于螺旋狀纏繞的所述導電元件的內(nèi)部寬度內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電噴霧離子源,其中,具有多個繞線的所述導電元件被嵌套在中空筒狀的加熱裝置的內(nèi)部,以便促進和/或改進對雜散電磁輻射的遏制。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電噴霧離子源,其中,具有多個繞線的所述導電元件具有在相反方向上彼此交錯和/或纏結(jié)的繞線。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電噴霧離子源,其中,具有多個繞線的所述導電元件具有向前螺旋狀盤旋然后翻轉(zhuǎn)的第一段繞線、以及在所述第一段繞線之間的間隙之間向后螺旋狀盤旋的第二段繞線。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電噴霧離子源,其中,所述加熱裝置是包圍所述噴霧毛細管的中空圓筒。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電噴霧離子源,其中,所述中空圓筒在靠近所述噴霧毛細管的末端的前端部處漸縮,使得排出的經(jīng)加熱的氣體與所述噴霧溶液相交。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電噴霧離子源,其中,所述中空圓筒(i)是導電的并且包含用于引導所述氣體的直的或蜿蜒的通道,(ii)是不導電的并且包含埋設的金屬的或其他導電的毛細管以引導所述氣體,或(iii)包含用于所述氣體的具有導電多孔填充物的非導電通道。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電噴霧離子源,其中,在所述非導電通道內(nèi)的所述導電多孔填充物包括如下兩項中的一項:(i)成束的金屬或其他導電的絨棉;和(ii)成片的多孔燒結(jié)金屬。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電噴霧離子源,其中,所述絨棉用惰性金屬來鍍覆以避免腐蝕。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電噴霧離子源,其中,所述加熱裝置是具有一個或多個通道以加熱所述氣體的金屬薄板或其他導電板,所述薄板具有包圍所述噴霧毛細管的環(huán)的形式。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電噴霧離子源,其中,所述導電元件具有呈盤旋形件的形式的多個繞線,并且定位成與所述薄板相對,同樣包圍所述噴霧毛細管。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電噴霧離子源,還包括從所述薄板伸出的朝所述噴霧溶液的方向引導經(jīng)加熱的氣體的至少一個毛細管。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的電噴霧離子源,其中,所述至少一個毛細管沿徑向向內(nèi)漸縮,使得所述經(jīng)加熱的氣體被直接引導到所述噴霧溶液中。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電噴霧離子源,其中,具有多個繞線的至少一個導電元件和相關(guān)聯(lián)的加熱裝置被布置和定位成相對于所述噴霧毛細管偏移,使得經(jīng)加熱的氣體束被引導以與從所述噴霧毛細管的末端噴出的噴霧羽流相交。
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