[發明專利]一種基于親疏水選擇浸潤調控的光偏折超表面

有效

• 申請號: 202110584121.5
• 申請日: 2021-05-27
• 公開（公告）號: CN113325490B
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 李仲陽;李哲;萬成偉;代塵杰;鄭國興;時陽陽;萬帥;胡婉林
• 申請（專利權）人: 武漢大學
• 主分類號: G02B1/00
• 分類號: G02B1/00;G02B5/12
• 代理公司: 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 齊晨潔

1.一種基于親疏水選擇浸潤調控的光偏折超表面，包括反射基底(10)和設置在反射基底(10)上的透明薄膜層(20)，其特征在于，所述反射基底(10)為親水性金屬材料，所述透明薄膜層(20)為疏水性材料，所述透明薄膜層(20)上有陣列排布的等腰梯形槽孔(21)，所述等腰梯形槽孔(21)從上至下貫穿所述透明薄膜層(20)。

2.根據權利要求1所述的光偏折超表面，其特征在于，所述等腰梯形槽孔(21)沿橫向和縱向周期性陣列排布在所述透明薄膜層(20)上。

3.根據權利要求2所述的光偏折超表面，其特征在于，所述等腰梯形槽孔(21)的窄底邊W₁和寬底邊W₂沿縱向，等腰梯形槽孔(21)的高L沿橫向。

4.根據權利要求3所述的光偏折超表面，其特征在于，所述等腰梯形槽孔(21)的窄底邊W₁長度為60nm，寬底邊W₂長度為260nm，高L為700nm，透明薄膜層厚度t為300nm。

5.根據權利要求4所述的光偏折超表面，其特征在于，所述等腰梯形槽孔沿橫向陣列排布的最小周期P_x為1000nm，沿縱向陣列排布的最小周期P_y為300nm。

6.根據權利要求1所述的光偏折超表面，其特征在于，所述透明薄膜層(20)由聚甲基丙烯酸甲酯制成，所述反射基底(10)為鋁層。

7.根據權利要求1所述的光偏折超表面，其特征在于，所述反射基底(10)厚度為100nm。