[發(fā)明專利]磁鐵磁場測量用的線圈固定裝置

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• 申請日: 2021-05-27
• 公開（公告）號: CN113296034A
• 公開（公告）日: 2021-08-24
• 發(fā)明（設計）人: 梁冉;陳宛;陳福三
• 申請（專利權）人: 中國科學院高能物理研究所
• 主分類號: G01R33/02
• 分類號: G01R33/02
• 代理公司: 北京志霖恒遠知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11435
• 代理人: 郭棟梁

本申請涉及磁場測量技術領域，公開了一種磁鐵磁場測量用的線圈固定裝置，包括用于與直線運動機構連接的導向架；扁平板狀結構的線圈支架，所述線圈支架的一側用于安裝線圈，所述線圈支架的另一側固定于所述導向架的端部；精調機構，所述精調機構包括關于直線運動機構的前進方向對稱分布的差動調節(jié)裝置，所述差動調節(jié)裝置固定于所述導向架上，所述差動調節(jié)裝置的移動端通過拉線與所述線圈支架連接。通過調節(jié)移動端的位置來控制拉線的張緊程度，進而調節(jié)線圈支架在重力方向上的撓度。

技術領域

本發(fā)明一般涉及磁場測量技術領域，具體涉及一種磁鐵磁場測量用的線圈固定裝置。

背景技術

長線圈磁場積分測量裝置有一個寬度很大的線圈，該線圈通過線圈支架固定在直線運動機構上。直線運動機構沿與線圈寬度垂直的方向勻速運動，使得固定有線圈的支架進入磁鐵的氣隙，用于測量加速器磁鐵氣隙內部的磁場。

加速器磁鐵氣隙內部的磁場寬度(對應于線圈的寬度)很大，但高度和長度(對應于線圈的橫截面積)很小，因此線圈及其支架也需要保持較大的寬度和較小的橫截面，這使得線圈和支架在重力方向上撓度較大，進而容易使線圈及其支架與磁鐵發(fā)生碰撞，同時也因影響線圈在磁場中的有效面積，從而造成測量誤差。

現(xiàn)有長線圈的支架一般是呈“π”形排列的三根桿狀或棒狀結構，其中線圈固定在“π”的橫桿上，通過兩根與之垂直的桿或棒固定在直線運動機構上。減小支架和線圈撓度的方法基本是直接增大桿或棒的直徑。但如果磁鐵氣隙的長度和高度較小時，支架的桿或棒直徑受限，使得支架和線圈的撓度增大。

發(fā)明內容

鑒于現(xiàn)有技術中的上述缺陷或不足，期望提供一種磁鐵磁場測量用的線圈固定裝置。

本發(fā)明提供一種磁鐵磁場測量用的線圈固定裝置，包括：用于與直線運動機構連接的導向架；扁平板狀結構的線圈支架所述線圈支架的一側用于安裝線圈，所述線圈支架的另一側固定于所述導向架的端部；精調機構，所述精調機構包括關于直線運動機構的前進方向對稱分布的差動調節(jié)裝置，所述差動調節(jié)裝置固定于所述導向架上，所述差動調節(jié)裝置的移動端通過拉線與所述線圈支架連接。

在一個實施例中，所述導向架包括方向調節(jié)機構，所述方向調節(jié)機構能夠使線圈的延伸方向垂直于線圈的前進方向。

在一個實施例中，所述方向調節(jié)機構包括相互重疊并且能相對轉動的兩個基座，上方基座遠離所述線圈支架的一側、向靠近所述線圈支架的一側縮進、并露出下方基座的部分表面，所述部分表面上設有關于直線運動機構的前進方向對稱分布的方向調節(jié)裝置，所述方向調節(jié)裝置包括調節(jié)基座和調節(jié)軸，所述調節(jié)基座固定于所述下方基座上，所述調節(jié)軸穿過所述調節(jié)基座，抵緊于上方基座的側面。

在一個實施例中，所述導向架還包括水平度粗調裝置，所述水平度粗調裝置設于所述方向調節(jié)機構上，所述水平度粗調裝置包括連接于所述線圈支架遠離線圈一側的連接支架，通過調節(jié)件穿過所述連接支架緊抵于所述上方基座的頂部上。

在一個實施例中，所述連接支架包括關于直線運動機構的前進方向對稱分布的兩個連接支架，所述兩個連接支架通過各自的靠山定位并固連于所述線圈支架上，其中一個所述連接支架的肋板與所述線圈支架的一端平齊，另一個所述連接支架的肋板與所述線圈支架的另一端平齊。

在一個實施例中，沿所述線圈支架的延伸方向設有多個與所述移動端對應的拉線座，通過拉線連接所述移動端及其對應的所述拉線座，將各所述差動調節(jié)裝置與所述導向架連接在一起，所述拉線座關于直線運動機構的前進方向對稱分布。