[發明專利]微型凹透鏡的制備方法及微型凹透鏡有效
| 申請號： | 202110576744.8 | 申請日： | 2021-05-26 |
| 公開（公告）號： | CN113031131B | 公開（公告）日： | 2021-08-17 |
| 發明（設計）人： | 劉曉海;吳盟 | 申請（專利權）人： | 歐梯恩智能科技（蘇州）有限公司 |
| 主分類號： | G02B3/00 | 分類號： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京商專潤文專利代理事務所(普通合伙) 11317 | 代理人： | 王祖悅 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市姑*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 微型 凹透鏡 制備 方法 | ||
1.微型凹透鏡的制備方法，其特征在于，包括以下步驟，
步驟1，在襯底的上表面進行第一次刻蝕，形成下沉平臺；
步驟2，在所述下沉平臺中進行第二次刻蝕，形成半球狀模具；
步驟3，在所述襯底的上表面進行陽極鍵合，鍵合絕緣玻璃；
步驟4，通過熱熔回流工藝使所述絕緣玻璃填充至所述下沉平臺；
步驟5，減薄拋光所述絕緣玻璃的上表面；
步驟6，對所述襯底進行第三次刻蝕，得到微型凹透鏡。
2.根據權利要求1所述的微型凹透鏡的制備方法，其特征在于，在步驟1中，所述第一次刻蝕包括，
步驟1.1，在所述襯底上表面均勻旋涂光刻膠；
步驟1.2，通過光刻工藝去除所述襯底上表面的部分光刻膠，裸露出所述襯底；
步驟1.3，在步驟1.2中裸露的襯底上通過干法刻蝕工藝刻蝕下沉平臺。
3.根據權利要求2所述的微型凹透鏡的制備方法，其特征在于，在步驟1中，還包括，在進行所述第一次刻蝕后，對下沉平臺進行去膠清洗。
4.根據權利要求2所述的微型凹透鏡的制備方法，其特征在于，所述下沉平臺的底面為長方形或正方形。
5.根據權利要求1所述的微型凹透鏡的制備方法，其特征在于，在步驟2中，所述第二次刻蝕包括，
步驟2.1，在襯底的上表面及下沉平臺表面均勻噴涂光刻膠；
步驟2.2，在下沉平臺中形成光刻膠柱；
步驟2.3，使用烘箱進行回流將所述光刻膠柱變為半球狀；
步驟2.4，通過干法刻蝕工藝腐蝕半球狀光刻膠柱及襯底，得到半球狀模具。
6.根據權利要求5所述的微型凹透鏡的制備方法，其特征在于，在步驟2.1中，所述在襯底上表面均勻噴涂光刻膠，所述光刻膠的厚度小于下沉平臺的高度。
7.根據權利要求1所述的微型凹透鏡的制備方法，其特征在于，在步驟6中，所述第三次刻蝕為單面濕法刻蝕。
8.根據權利要求1所述的微型凹透鏡的制備方法，其特征在于，所述襯底是硅襯底。
9.微型凹透鏡，其特征在于，由權利要求1-8中任一所述微型凹透鏡的制備方法制備。
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