[發明專利]不等臂干涉儀臂長差測量系統在審
| 申請號: | 202110574771.1 | 申請日: | 2021-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN113324485A | 公開(公告)日: | 2021-08-31 |
| 發明(設計)人: | 陳柳平;王林松;王其兵;范永勝;萬相奎 | 申請(專利權)人: | 國開啟科量子技術(北京)有限公司;廣東啟科量子信息技術研究院有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02;G01B9/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100193 北京市海淀區西*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 不等 干涉儀 臂長差 測量 系統 | ||
1.一種不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于,包括:
光源模塊,被配置為制備周期脈沖光;
標準不等臂干涉儀,被配置為將所述光源模塊發出的第一光束時分為第一周期脈沖光和第二周期脈沖光并將所述第一周期脈沖光和所述第二周期脈沖光輸入待測不等臂干涉儀;
光纖延遲線,被配置為與標準不等臂干涉儀的一個臂光連接;
所述待測不等臂干涉儀,被配置為將第一周期脈沖光與第二周期脈沖光產生干涉,得到第二光束;
測量模塊,被配置實時計算所述第二光束中相干脈沖光的光強;
控制模塊,還被配置為根據所述相干脈沖光的光強,得到所述待測不等臂干涉儀的臂長差。
2.根據權利要求1所述的不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于:
所述測量模塊為門控單光子探測器。
3.根據權利要求1所述的不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于:
所述控制模塊,被配置為根據公式,實時計算所述待測不等臂干涉儀的對比度,其中,、分別為所述第二光束中相干脈沖光的光強,大于。
4.根據權利要求3所述的不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于:
所述控制模塊,還被配置為持續調整所述光纖延遲線的位置以調節所述待測不等臂干涉儀一個臂的光路長度,直至待測不等臂干涉儀的對比度達到最大值。
5.根據權利要求4所述的不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于:
所述控制模塊,還被配置為當所述待測不等臂干涉儀的對比度達到最大值時,根據公式,計算所述待測不等臂干涉儀的臂長差,其中,為所述標準不等臂干涉儀的臂長差,
6.根據權利要求1所述的不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于:
所述標準不等臂干涉儀中的分束器均為50:50的分束器。
7.根據權利要求1所述的不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于:
所述待測不等臂干涉儀中的分束器均為50:50的分束器。
8.根據權力要求1-7任一項所述的不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于,還包括:
可變光衰減器,被配置為將所述標準不等臂干涉儀輸出的第一周期脈沖光及第二周期脈沖光的功率衰減后輸入所述待測不等臂干涉儀。
9.根據權利要求1所述的不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于:
所述測量模塊包括高速光電探測器和加高速采集卡。
10.根據權利要求1所述的不等臂干涉儀臂長差測量系統,其特征在于:
所述光源模塊為分布式反饋激光器。
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