[發明專利]產生標準單元庫版圖的方法

在審

• 申請號: 202110571843.7
• 申請日: 2021-05-25
• 公開（公告）號: CN113158618A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 楊景丞
• 申請（專利權）人: 楊家奇
• 主分類號: G06F30/398
• 分類號: G06F30/398
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，包括：

將版圖設計規則和電路設計參數輸入至版圖算法資料庫，以利用所述版圖算法資料庫檢測標準單元的各版圖布局是否符合所述版圖設計規則，并檢測標準單元的各版圖布局的電性規格是否符合使用要求；以及，

將符合所述版圖設計規則以及電性規格符合使用要求的版圖布局存儲至標準單元庫版圖中。

2.如權利要求1所述的產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，所述版圖算法資料庫通過多個含內嵌算法的程序整合得到，不同的所述含內嵌算法的程序對應于不同的標準單元和布局方式。

3.如權利要求2所述的產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，所述利用版圖算法資料庫檢測標準單元的各版圖布局是否符合晶圓廠設計規則的方法包括：

利用相應所述內嵌算法將固定版圖布局的每一個幾何圖形根據版圖標準GDSII格式規定，按所述版圖設計規則，逐個利用算法的方式來描述；

對于每個所述描述，利用指定算式檢查是否符合設計規則。

4.如權得要求2所述的產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，所述利用版圖算法資料庫檢測標準單元的各版圖布局的電性規格是否符合使用要求的方法包括：

根據輸入的所述電路設計參數，利用相應所述內嵌算法計算固定版圖布局的規格參數值；以及，

根據計算得到的所述規格參數值，判斷電性規格是否滿足符合使用要求。

5.如權利要求2所述的產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，所述產生標準單元庫版圖的方法還包括：

若一固定版圖布局的電性規格不符合晶圓廠設計規則，則依據電性規格規定調整所述內嵌算法中用于電路設計的規格參數變量，并重新執行所述含內嵌算法的程序，以判斷所述固定版圖布局是否符合晶圓廠設計規則，若符合，則將所述固定版圖布局存儲至所述標準單元庫版圖。

6.如權利要求2所述的產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，所述內嵌算法的程序利用獲取不同算法子程序的組合方式來執行。

7.如權利要求1所述的產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，在將所述版圖設計規則輸入至所述版圖算法資料庫之前，所述產生標準單元庫版圖的方法還包括：

將所述版圖設計規則的說明文本按預設規則轉換為算法程序語言。

8.如權利要求7所述的產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，所述版圖設計規則的文本包括版圖層次資訊，所述預設規則包括第一規則，所述第一規則為：

Layer表示當前行為版圖的層次；

XXX表示層次號碼的3個整數位,不足部分補零；

DataType表示版圖層次類型；

xxx表示層次類型的3個整數位,不足部分補零；

KeyName是版圖層次名稱的關鍵字，依據版圖層次資訊表格中的關鍵字書寫。

9.如權利要求7所述的產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，所述版圖設計規則的文本包括版圖設計規則資訊，所述預設規則包括第二規則，所述第二規則為：RuleXXXxxxNNNisdddd Note；其中，

Rule表示當前行為版圖層次的設計規則；

XXX表示版圖層次號碼的3個整數位號碼,不足部分補零；

xxx表示層次類型的3個整數位,不足部分補零；

NNN表示設計規則的3個整數位編碼,不足部分補零

dddd表示設計規則的4個整數位數值,單位是奈米,不足部分補零。

10.一種產生標準單元庫版圖的方法，其特征在于，包括：

將版圖設計規則輸入至版圖算法資料庫，以利用所述版圖算法資料庫檢測標準單元的各版圖布局是否符合晶圓廠設計規則；

利用電路仿真軟件獲取晶圓廠提供的元器件模型,得到仿真的結果以判斷標準單元的各版圖布局是否符合電性規格；以及，

將符合晶圓廠設計規則以及電性規格符合使用要求的版圖布局存儲至標準單元庫版圖中。