[發明專利]一種釉上透明堆雕的制作工藝

有效

• 申請號: 202110571341.4
• 申請日: 2021-05-25
• 公開（公告）號: CN113264757B
• 公開（公告）日: 2023-03-21
• 發明（設計）人: 許麗枝;黃愛春
• 申請（專利權）人: 德化縣韻麗陶瓷有限公司
• 主分類號: C04B35/14
• 分類號: C04B35/14;C04B35/622;C04B35/64;C04B41/89;C03C8/00;C09C1/00
• 代理公司: 連云港聯創專利代理事務所(特殊普通合伙) 32330
• 代理人: 谷金穎

本發明公開了一種釉上透明堆雕的制作工藝，包括以下步驟：步驟一、制坯泥：將瓷土基料粉碎后放入磨機，加入混合原料總重量30％的水，開機濕磨16小時，經過濕磨的料漿過200目篩，取出靜置24小時，然后將泥漿倒入壓濾機。有益效果：通過設置底色后在進行上色，最后在進行透明堆雕，能夠使得產生層次強烈的堆雕效果，立體感強，層次分明，并且嚴格控制燒制時的溫度，能夠使得燒制受熱均勻，產品質量均一、成品率高，而且能夠對上色層進行防霉、防刮、防變形，而且堆雕細膩光澤、形象逼真。

技術領域

本發明涉及陶瓷堆雕技術領域，具體來說，涉及一種釉上透明堆雕的制作工藝。

背景技術

堆雕亦稱凸雕、凸花。是采用各種方法，如堆、貼、刻等，使陶瓷表面產生凸起的紋樣。一般分為高浮雕和淺浮雕兩種，也有兩者相結合的。現有技術中的堆雕工藝多以單層為主，產品的樣式較為單一，立體感不強，層次不分明，難以滿足消費者的需求，并且在燒制過程中，也極易因為受熱不均勻而使坯體收縮不一致裂開，導致廢品率較高。

針對相關技術中的問題，目前尚未提出有效的解決方案。

發明內容

本發明的目的在于提供一種釉上透明堆雕的制作工藝，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種釉上透明堆雕的制作工藝包括以下步驟：

步驟一、制坯泥：將瓷土基料粉碎后放入磨機，加入混合原料總重量30%的水，開機濕磨16小時，經過濕磨的料漿過200目篩，取出靜置24小時，然后將泥漿倒入壓濾機，將泥漿內的水份過濾，再將泥漿送入真空煉泥機進行煉泥，直至泥漿含水量達到23%為止，制得泥坯，取出，進行揉泥，制得泥頭，備用；

步驟二、制釉：將釉原料混合放入球磨機內，研磨19小時，向研磨后的原料內加入混合原料總重量30%的水制得外釉料漿，攪拌均勻，用濾網過濾后使釉水內沒有雜質后，向料漿內加水，將料漿的含水量調整為60%，備用；

步驟三、制坯：將上述泥頭放入盤型滾壓模具中，操作設備滾壓制得坯體，坯體在一定程度干燥后把坯體從模具中取出，修整，備用；

步驟四、素燒：將上述修整完成的坯體放入窯內，進行焙燒，在1000℃下燒制7小時，并在1000℃時恒溫1小時，制得素坯，備用；

步驟五、施釉：取出素坯，借助上釉工具，拇指按住坯體，由上而下快速放入釉水中，迅速拿出，晾干，晾干后把坯體底部的釉水擦干凈，備用；

步驟六、鍛燒：對上述壞體進行補坯，補坯后的產品放入窯內，裝好后開始窯煅燒，窯蓋不能蓋嚴，留30公分縫隙，打開電源，全程電壓輸出為100開始燒制，設置到達550℃燒制120分鐘，到達1000℃燒制180分鐘，到達1000℃恒溫60分鐘，到達1230℃燒制240分鐘，到達1360℃燒制180分鐘，到達1360℃恒溫120分鐘，然后把窯蓋打開20公分，經12小時后，開始逐漸降溫到200℃，把窯蓋全部打開，降溫1小時，降到100℃以下后，開始出窯，煅燒完畢；

步驟七：用市面上的用熔點大于1000℃ 的黑色釉上顏料加入乳香油，進行研磨12小時，研磨細膩，取出部分顏料，然后對燒制的坯體進行輪廓線的勾勒，用超細海綿在需要上色的區域漸變地拍出黑色底色，待干燥后再放入窯內在800℃下進行燒制，550℃燒制120分鐘，到800℃燒制150分鐘，800℃保溫10分鐘，電壓輸出全部100，燒制結束完成第一道上色工序；

步驟八：在完成第一道工序的時候，用橄欖綠釉上彩原料加入乳香油調和，兩種顏料進行研磨12小時，研磨細膩，取出部分顏料，用超細海綿在所上色區域進行由重到輕進行上色，待干燥后再放入窯內在780℃下進行燒制，550℃燒制120分鐘，到780℃燒制150分鐘，780℃保溫10分鐘，電壓輸出全部100，燒制結束完成第二道上色工序；