[發明專利]圖像處理方法、裝置、電子設備及存儲介質有效
| 申請號: | 202110571191.7 | 申請日: | 2021-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN113470160B | 公開(公告)日: | 2023-08-08 |
| 發明(設計)人: | 黃飛鴻 | 申請(專利權)人: | 北京達佳互聯信息技術有限公司 |
| 主分類號: | G06T15/50 | 分類號: | G06T15/50;G06T3/00 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;賈允 |
| 地址: | 100085 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 處理 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種圖像處理方法,其特征在于,包括:
獲取人臉圖像以及與所述人臉圖像對應的基礎唇妝的漫反射圖像、預設液體層的物理參數信息和預設物理環境信息;其中,所述基礎唇妝為在所述預設液體層之前涂抹在唇部的唇妝;所述預設物理環境信息用于表征環境中視線和光線的信息;
根據所述預設液體層的物理參數信息和所述預設物理環境信息,對所述預設液體層進行鏡面反射處理,得到液體層圖像;
根據所述預設液體層的物理參數信息,確定所述光線在所述預設液體層的折射信息;
基于所述折射信息和所述漫反射圖像,獲取基礎唇妝層圖像;
將所述液體層圖像和所述基礎唇妝層圖像渲染在所述人臉圖像的唇部上,得到目標人臉圖像;
其中,所述基于所述折射信息和所述漫反射圖像,獲取基礎唇妝層圖像步驟包括:
基于所述漫反射圖像,獲取所述基礎唇妝的第二雙向反射分布信息;
根據所述折射信息和所述第二雙向反射分布信息,獲取所述基礎唇妝層圖像。
2.根據權利要求1所述的圖像處理方法,其特征在于,所述預設液體層的物理參數信息包括所述預設液體層的基礎反射率、光滑度信息和法線貼圖;所述預設物理環境信息包括預設視線信息和預設光線信息;所述根據所述預設液體層的物理參數信息和所述預設物理環境信息,對所述預設液體層進行鏡面反射處理,得到液體層圖像步驟包括:
基于所述法線貼圖,獲取唇部法向量信息;
基于所述唇部法向量信息、所述預設視線信息和所述基礎反射率,確定所述預設液體層的反射率,其中所述基礎反射率是指所述預設液體層的反射率下限,所述預設液體層的反射率是指所述光線在所述預設液體層被反射的比率;
根據所述唇部法向量信息、所述反射率、所述光滑度信息、所述預設視線信息和所述預設光線信息,對所述預設液體層進行鏡面反射處理,得到所述液體層圖像。
3.根據權利要求2所述的圖像處理方法,其特征在于,所述根據所述唇部法向量信息、所述反射率、所述光滑度信息、所述預設視線信息和所述預設光線信息,對所述預設液體層進行鏡面反射處理,得到所述液體層圖像步驟包括:
基于所述唇部法向量信息、所述預設視線信息、所述光滑度信息和所述預設光線信息,獲取所述預設液體層的第一雙向反射分布信息;
根據所述反射率和所述第一雙向反射分布信息,獲取所述液體層圖像。
4.根據權利要求2所述的圖像處理方法,其特征在于,所述預設液體層的物理參數信息還包括所述預設液體層的厚度貼圖;所述根據所述預設液體層的物理參數信息,確定光線在所述預設液體層的折射信息步驟包括:
根據所述反射率,獲取所述液體層的折射率;
基于所述厚度貼圖,確定光線衰減信息;
根據所述折射率和所述光線衰減信息,確定所述折射信息。
5.根據權利要求2所述的圖像處理方法,其特征在于,所述獲取與所述人臉圖像對應的基礎唇妝的漫反射圖像步驟包括:
生成與所述人臉圖像對應的人臉模型;
為所述人臉模型中的唇部添加基礎唇妝,得到所述基礎唇妝的漫反射圖像。
6.根據權利要求5所述的圖像處理方法,其特征在于,所述方法還包括:
獲取所述人臉模型的法向量和切向量;
所述基于所述法線貼圖,獲取唇部法向量信息步驟包括:
將所述法向量和所述切向量相乘,得到中間向量;
將所述法向量、所述切向量和所述中間向量組成向量矩陣;
從所述法線貼圖中提取法線分布向量;
對所述法線分布向量和所述向量矩陣進行相乘處理,得到所述唇部法向量信息。
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