[發明專利]一種納米空氣溝道晶體管在審
| 申請號: | 202110571179.6 | 申請日: | 2021-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN113345781A | 公開(公告)日: | 2021-09-03 |
| 發明(設計)人: | 王躍林;劉夢;史東方;李鐵;梁淞泰 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海微系統與信息技術研究所 |
| 主分類號: | H01J29/04 | 分類號: | H01J29/04;H01J29/02;H01J29/52;H01J29/82 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;賈允 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 納米 空氣 溝道 晶體管 | ||
1.一種納米空氣溝道晶體管,其特征在于,包括:
陽極(8),所述陽極(8)設有陽極支點(7);
柵極(4),所述柵極(4)的第一側與所述陽極支點(7)連接,所述柵極(4)的第二側設有柵極支點(2);
陰極(1),所述陰極(1)與所述柵極支點(2)連接,所述陰極(1)的靠近所述柵極(4)的一側設有第一凸起(9)。
2.如權利要求1所述的納米空氣溝道晶體管,其特征在于,所述第一凸起(9)的形狀為棒狀、錐狀或金字塔狀。
3.如權利要求1所述的納米空氣溝道晶體管,其特征在于,所述第一凸起(9)通過以下任一方式形成:等離子體刻蝕方式、濕法腐蝕方式、聚焦離子束刻蝕方式。
4.如權利要求1所述的納米空氣溝道晶體管,其特征在于,所述柵極(4)設有網孔。
5.如權利要求4所述的納米空氣溝道晶體管,其特征在于,所述柵極(4)的厚度范圍小于50nm,所述網孔的半徑范圍為5nm~500nm。
6.如權利要求4所述的納米空氣溝道晶體管,其特征在于,還包括第一絕緣層(5)、第二絕緣層(3)和第三絕緣層(6),所述第一絕緣層(5)設于所述柵極(4)的第一側與所述陽極支點(7)之間,所述第二絕緣層(3)設于所述柵極(4)的第二側與所述柵極支點(2)之間,所述第三絕緣層(6)設于所述網孔的孔壁。
7.如權利要求6所述的納米空氣溝道晶體管,其特征在于,所述第一絕緣層(5)和所述第二絕緣層(3)均設有與所述網孔相匹配的通孔,所述第三絕緣層(6)設于所述通孔的孔壁。
8.如權利要求6所述的納米空氣溝道晶體管,其特征在于,所述第一絕緣層(5)、所述第二絕緣層(3)和所述第三絕緣層(6)的厚度范圍均為2nm~10nm。
9.如權利要求1所述的納米空氣溝道晶體管,其特征在于,所述陽極(8)的靠近所述柵極(4)的一側設有第二凸起。
10.如權利要求1所述的納米空氣溝道晶體管,其特征在于,所述陽極(8)和所述陰極(1)之間的距離小于150nm。
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