[發明專利]具有終點檢測窗的拋光墊及其應用有效
| 申請號: | 202110568446.4 | 申請日: | 2021-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN113246015B | 公開(公告)日: | 2022-09-20 |
| 發明(設計)人: | 謝毓;王凱 | 申請(專利權)人: | 萬華化學集團電子材料有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/20 | 分類號: | B24B37/20;B24B37/26 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 264006 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 終點 檢測 拋光 及其 應用 | ||
1.一種具有終點檢測窗的拋光墊,所述拋光墊至少包括:
終點檢測窗,所述終點檢測窗具有L邊及W邊;
拋光層,所述拋光層表面具有至少一第一溝槽、至少一第二溝槽;
所述終點檢測窗緊固于所述拋光層中,且所述終點檢測窗的表面和所述拋光層表面齊平;
所述第一溝槽是以拋光墊中心為圓心的同心圓或同心多邊形狀的溝槽,所述至少一第一溝槽與緊鄰終點檢測窗L邊的所述第二溝槽連通;
所述第一溝槽深度為D1,所述第二溝槽的溝槽深度為D2,且D1D2;所述第二溝槽的深度小于所述終點檢測窗的厚度;所述第二溝槽底部為倒三角形。
2.根據權利要求1所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述緊鄰終點檢測窗L邊的第二溝槽為長度與L邊邊長相等的線性溝槽。
3.根據權利要求2所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述第一溝槽具有恒定的溝槽深度D1,0.5mm≤D1≤0.9mm;第二溝槽深度0.9mmD2≤1.5mm。
4.根據權利要求1~3任一項所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述拋光層厚度選自1.7~2.5mm。
5.根據權利要求1~3任一項所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述第一溝槽底部為平面形狀。
6.根據權利要求1所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述第二溝槽底部倒三角形的角度為θ,其中30°≤θ≤60°。
7.根據權利要求1~3任一項所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述終點檢測窗為多邊形結構。
8.根據權利要求7所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述終點檢測窗為四邊形結構。
9.根據權利要求8所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述終點檢測窗為平行四邊形。
10.根據權利要求1~3任一項所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述第一溝槽彼此均勻間隔分布,溝槽間距為1.5~3.5mm。
11.根據權利要求10所述的具有終點檢測窗的拋光墊,其特征在于,所述第一溝槽為均勻間隔分布的同心圓形狀。
12.權利要求1-11任一項所述的具有終點檢測窗的拋光墊在磁性基片、光學基片或半導體基片化學機械拋光中的應用。
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