[發明專利]BiVO4 有效
| 申請號: | 202110566485.0 | 申請日: | 2021-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN113403642B | 公開(公告)日: | 2022-09-16 |
| 發明(設計)人: | 白紅葉;孫東甜;范偉強;白亞杰;龐緒良 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | C25B11/091 | 分類號: | C25B11/091;C25B11/053;C25B1/04;C25B1/55;C25D9/04 |
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| 地址: | 212013 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | bivo base sub | ||
1.一種BiVO4/Co1-XS復合光電極的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
A、在50mL去離子水中加入3.32g KI和0.97g Bi(NO3)3·5H2O,攪拌溶解后用濃硝酸調節pH為1.7,命名為A溶液;將0.4968g對苯醌加入到20mL乙醇中,攪拌至溶解,命名為B溶液;將所述A與B溶液混合,攪拌均勻后即為前驅體溶液;在清洗干凈的FTO表面電沉積獲得BiOI薄膜,在其表面滴加釩源之后,300~550℃煅燒1~4h,得到BiVO4薄膜,其中,所述電沉積,以FTO為工作電極,Ag/AgCl和Pt分別為參比電極和對電極,與電化學工作站相連,設置偏壓為-0.1V vs.Ag/AgCl,時間為5min;
B、四個燒杯分別添加50mL去離子水并編號1、2、3、4,在1號燒杯中溶解0.05~0.15mmolCo(NO3)2·6H2O,在3號燒杯中溶解0.05~0.15mmol Na2S;
C、將負載有BiVO4的FTO片依編號次序在上述燒杯中浸泡,循環10-50次后取出,去離子水洗凈,室溫干燥,即可得到BiVO4/Co1-XS。
2.根據權利要求1所述BiVO4/Co1-XS復合光電極的制備方法,其特征在于:步驟A所述在其表面滴加釩源之后,450℃煅燒2h,得到BiVO4薄膜。
3.根據權利要求1所述BiVO4/Co1-XS復合光電極的制備方法,其特征在于:步驟A所述清洗干凈的FTO玻璃片,先清潔FTO玻璃片表面,然后在丙酮、異丙醇和乙二醇中分別對其超聲波清洗0.5h,取出,晾干。
4.根據權利要求1所述BiVO4/Co1-XS復合光電極的制備方法,其特征在于:步驟A所述釩源為含有0.2M乙酰丙酮氧釩的二甲亞砜溶液。
5.根據權利要求1所述BiVO4/Co1-XS復合光電極的制備方法,其特征在于:步驟B所述在1號燒杯中溶解0.1mmol Co(NO3)2·6H2O。
6.根據權利要求1所述BiVO4/Co1-XS復合光電極的制備方法,其特征在于:步驟B所述在3號燒杯中溶解0.1mmol Na2S。
7.根據權利要求1所述BiVO4/Co1-XS復合光電極的制備方法,其特征在于:步驟C所述將負載有BiVO4的FTO片依編號次序在上述燒杯中浸泡,循環30次后取出。
8.根據權利要求1-7任一所述方法制備得到的BiVO4/Co1-XS復合光電極,其特征在于:所述復合光電極中BiVO4呈現出蠕蟲狀結構,復合Co1-XS后,BiVO4表面具有明顯的納米顆粒。
9.一種如權利要求8所述BiVO4/Co1-XS復合光電極的應用,其特征在于:將其應用于光電催化分解水制氫。
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