[發明專利]一種微納基底及其制備方法與應用

有效

• 申請號: 202110565587.0
• 申請日: 2021-05-24
• 公開（公告）號: CN113368126B
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發明（設計）人: 聶壹峰;李想;韓東
• 申請（專利權）人: 國家納米科學中心
• 主分類號: A61K31/765
• 分類號: A61K31/765;A61K47/60;A61K47/64;A61K47/52;A61P35/00
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 孫怡

1.一種用于抑制黑色素瘤細胞的微納基底，其特征在于，由基底膜與所述基底膜上的多個微柱體組成；

所述多個微柱體的排列方式為：以一個微柱體為中心出發點，向外四周呈放射線狀延伸排列多個微柱體，每條放射線上的微柱體以微柱體的直徑為間距間隔排列；每條放射線上緊鄰中心出發點的微柱體彼此之間緊密排列；

當相鄰2條放射線上，位于相同延伸長度的微柱體之間的間距首次大于3-4倍微柱體的直徑時，在所述相鄰2條放射線上位于相同延伸長度的微柱體中間設置一微柱體，并以該微柱體為起點繼續以與其他放射線相同的方式延伸排列多個微柱體；

所述微納基底的材質為PDMS，在所述微納基底具有多個微柱體的一側的表面上修飾有聚合賴氨酸-聚乙二醇和膠原蛋白。

2.根據權利要求1所述的微納基底，其特征在于，所述微納基底上的所有微柱體的直徑相同。

3.根據權利要求2所述的微納基底，其特征在于，所述微柱體的直徑為4-7微米，高度為2-5微米。

4.根據權利要求3所述的微納基底，其特征在于，所述微柱體的直徑為5微米，高度為2微米。

5.根據權利要求3或4所述的微納基底，其特征在于，所述基底膜的長、寬、厚分別為：500-750微米、500-750微米和300-1000微米。

6.一種制備權利要求1-5任一項所述的微納基底的方法，其特征在于，以硅基底為模板，對所述硅基底進行表面氟化后，以翻錄方式制備具備多個微柱體的基底膜；所述氟化時所用的氟化劑為十七氟癸基三甲氧基硅烷。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，翻錄時所采用的材料為PDMS，翻錄后包括對微納基底的具有多個微柱體的一側的表面進行親水改性、膠原蛋白交聯的步驟；所述親水改性劑為聚合賴氨酸-聚乙二醇。

8.權利要求1-5任一項所述的微納基底或權利要求6-7任一項所述的方法制備得到的微納基底在制備抑制黑色素瘤細胞極化和增殖的產品中的應用。

9.根據權利要求8所述的應用，其特征在于，抑制黑色素瘤細胞增殖指抑制黑色素瘤S期細胞的增加。