[發明專利]壓力反應裝置及其控制方法

有效

• 申請號: 202110564984.6
• 申請日: 2021-05-24
• 公開（公告）號: CN113262083B
• 公開（公告）日: 2023-01-10
• 發明（設計）人: 閆文強;敖英芳;孫牧旸;胡曉青;代文立
• 申請（專利權）人: 北京大學第三醫院（北京大學第三臨床醫學院）
• 主分類號: A61F2/38
• 分類號: A61F2/38
• 代理公司: 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429
• 代理人: 張可

1.一種壓力反應裝置，其特征在于，所述壓力反應裝置包括：

容納部，用于容納組織工程半月板支架；

壓縮構件，對所述組織工程半月板支架的內側施力，以壓縮所述組織工程半月板支架，

所述壓縮構件的與所述組織工程半月板支架接觸的端部形成為弧面，所述壓縮構件由聚四氟乙烯形成，

所述壓力反應裝置包括：

反應構件，多個所述容納部形成于所述反應構件；

平臺，所述反應構件設置于所述平臺的上端面；

升降機構，與所述平臺的下端面連接，

所述壓力反應裝置還包括：

壓力傳感器，設置于所述平臺并位于所述反應構件的下方；

控制機構，與所述壓力傳感器通信連接。

2.根據權利要求1所述的壓力反應裝置，其特征在于，所述容納部的數量為多個，多個所述容納部呈陣列狀排布。

3.根據權利要求2所述的壓力反應裝置，其特征在于，所述反應構件的數量為多個，分別從屬于相鄰的兩個所述反應構件的最內側兩列所述容納部中彼此相對應的兩個所述容納部之間的距離為100mm。

4.根據權利要求3所述的壓力反應裝置，其特征在于，所述反應構件的數量為兩個，任一所述反應構件形成有12個容納部，所述容納部的直徑為10mm，相鄰兩個所述容納部之間的距離為26mm。

5.根據權利要求1所述的壓力反應裝置，其特征在于，所述壓力反應裝置還包括：

音圈電機，與所述控制機構通信連接，并驅動壓縮構件升降；

總控制屏，與所述控制機構通信連接，所述總控制屏包括參數設置界面和壓力顯示界面；

度量構件，設置于所述平臺，用于度量所述壓縮構件的位移變化以及所述組織工程半月板支架的壓縮程度。

6.一種壓力反應裝置的控制方法，其特征在于，所述方法用于控制如權利要求5所述的壓力反應裝置，所述方法包括：

將升降機構調節至第一預定高度，將預先載有間充質干細胞的組織工程半月板支架放入反應構件的容納部中；

將升降機構調節至第二預定高度，使得壓縮構件與半月板支架表面接觸；

在總控制屏的參數設置界面設置壓縮構件的壓縮頻率為：壓縮頭下降1秒，隨后維持1秒至2秒，然后上升1秒；并調節壓縮強度為使得組織工程半月板支架壓縮10％至20％；

向容納部中添加培養液及生長因子，并將培養環境調整至恒溫37度，二氧化碳濃度設置為5％。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，

在總控制屏的參數設置界面設置壓縮構件的壓縮頻率為：壓縮頭下降1秒，隨后維持1秒，然后上升1秒；并調節壓縮強度為使得組織工程半月板支架壓縮10％或13％或15％或18％。