[發明專利]一種ITO靶材廢靶循環利用方法在審
| 申請號： | 202110564896.6 | 申請日： | 2021-05-24 |
| 公開（公告）號： | CN113387682A | 公開（公告）日： | 2021-09-14 |
| 發明（設計）人： | 曾墩風;王志強;石煜;陶成 | 申請（專利權）人： | 蕪湖映日科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C04B35/01 | 分類號： | C04B35/01;C04B35/453;C04B35/622;C04B35/626 |
| 代理公司： | 南京正聯知識產權代理有限公司 32243 | 代理人： | 楊靜 |
| 地址： | 241000 安徽省蕪湖市中國(安徽)自*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 ito 靶材廢靶 循環 利用 方法 | ||
1.一種ITO靶材廢靶循環利用方法，其特征在于：將ITO廢靶放入汽化爐內，將爐內溫度升高至4000-5000℃，ITO廢靶在高溫下直接汽化再冷卻得到ITO粉，收集ITO粉，經過在氮氣氣氛下冷卻，得到純度4N，比表面6-8的ITO粉；
汽化爐升溫呈梯度上升：0-30min升溫至500℃，在此溫度下放入ITO廢靶，之后保溫，30-40min升溫至3000℃， 40-60min升溫至4000-5000℃，之后保溫，直至ITO廢靶全部汽化，最后冷卻，得到ITO粉；
ITO粉之后依次進行球磨得到納米級ITO粉末、冷等靜壓制成ITO素胚、燒結制成高密度ITO靶材中間物、機加工、綁定，最終得到ITO靶材。
2.如權利要求1所述一種ITO靶材廢靶循環利用方法，其特征在于：所述氮氣0-3min充入速率為6L/min，之后充入速率為2L/min。
3.如權利要求1所述一種ITO靶材廢靶循環利用方法，其特征在于：所述球磨具體為：將得到ITO粉放入球磨機依次進行球磨、砂磨、噴霧造粒后得到納米級ITO粉末。
4.如權利要求1所述一種ITO靶材廢靶循環利用方法，其特征在于：所述冷等靜壓具體為：將球磨制得的納米級ITO粉末裝于聚氨酯模具中，用冷等靜壓設備進行成型，制成ITO素胚。
5.如權利要求1所述一種ITO靶材廢靶循環利用方法，其特征在于：所述燒結具體為：將冷等靜壓制成的ITO素胚置于高溫氧氣燒結爐中進行燒結，制成高密度ITO靶材中間物。
6.如權利要求1所述一種ITO靶材廢靶循環利用方法，其特征在于：所述機加工具體為：將燒結制成高密度ITO靶材中間物進行內外圓磨、磨邊機加工。
7.如權利要求1所述一種ITO靶材廢靶循環利用方法，其特征在于：所述綁定具體為：將經過機加工后的高密度ITO靶材中間物綁定于鈦管外表面。
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