[發(fā)明專利]一種晶圓加工用的均流腔環(huán)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110560805.1
• 申請(qǐng)日: 2021-05-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113446770B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-06-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陸軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海泛久機(jī)電科技有限公司
• 主分類號(hào): F25D1/00
• 分類號(hào): F25D1/00;F25D17/04
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種晶圓加工用的均流腔環(huán)，包括環(huán)體(1)，其特征在于：晶圓放置在所述環(huán)體(1)的內(nèi)腔內(nèi)，所述環(huán)體(1)的一端端面開(kāi)設(shè)有凹槽(2)，所述環(huán)體(1)的端面上蓋設(shè)有用于封堵凹槽(2)的第一板(3)，所述第一板(3)的外壁上貫穿開(kāi)設(shè)有用于將外界氣流通入凹槽(2)內(nèi)腔內(nèi)的進(jìn)氣口(4)，所述凹槽(2)的內(nèi)腔內(nèi)設(shè)置有若干個(gè)用于增加晶圓表面空氣流速的上出氣管(5)，若干個(gè)所述上出氣管(5)繞著環(huán)體(1)的軸向呈圓形分布，所述上出氣管(5)一端位于凹槽(2)的內(nèi)腔內(nèi)，另一端位于環(huán)體(1)的內(nèi)腔內(nèi)，所述凹槽(2)的內(nèi)腔內(nèi)設(shè)置有若干個(gè)用于增強(qiáng)晶圓底面流速的下出氣管(6)，所述上出氣管(5)繞著環(huán)體(1)的軸向呈圓形分布，所述下出氣管(6)一端位于凹槽(2)的內(nèi)腔內(nèi)，另一端位于環(huán)體(1)的內(nèi)腔內(nèi)，晶圓位于上出氣管(5)與下出氣管(6)之間，所述上出氣管(5)與下出氣管(6)伸出凹槽(2)內(nèi)腔外的一端均固定有三通管(7)，所述三通管(7)的出氣端均呈縮口設(shè)置，所述凹槽(2)的內(nèi)腔內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有第二板(8)，所述第二板(8)兩側(cè)的內(nèi)腔呈連通設(shè)置，所述第二板(8)上設(shè)置有用于驅(qū)使上出氣管(5)與下出氣管(6)同步轉(zhuǎn)動(dòng)的動(dòng)力組件(9)，所述動(dòng)力組件(9)包括同軸固定在上出氣管(5)外壁上的第一齒輪(10)、同軸固定在下出氣管(6)外壁上的第二齒輪(11)、同軸固定在第二板(8)兩側(cè)上的端面齒輪(12)、傾斜設(shè)置在第二板(8)朝向第一板(3)一側(cè)的風(fēng)板(13)，所述第一齒輪(10)與第二板(8)朝向第一板(3)一側(cè)的端面齒輪(12)嚙合，所述第二齒輪(11)與第二板(8)背離第一板(3)一側(cè)的端面齒輪(12)嚙合，所述進(jìn)氣口(4)的氣流流向與風(fēng)板(13)的傾斜方向呈平行設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓加工用的均流腔環(huán)，其特征在于：所述凹槽(2)的內(nèi)壁上開(kāi)設(shè)有限位槽(14)，所述限位槽(14)內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有滾珠(15)，所述第二板(8)伸入限位槽(14)內(nèi)的一側(cè)與滾珠(15)接觸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓加工用的均流腔環(huán)，其特征在于：所述第二板(8)與第一板(3)之間設(shè)置有第三板(16)，所述第三板(16)上貫穿開(kāi)設(shè)有第一孔(17)，所述第三板(16)朝向第一板(3)一側(cè)放置有第四板(18)，所述第四板(18)上貫穿開(kāi)設(shè)有第二孔(19)，所述第一孔(17)與第二孔(19)均為斜孔，所述凹槽(2)內(nèi)設(shè)置有用于限制第四板(18)在第三板(16)上滑動(dòng)的抵接組件(20)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種晶圓加工用的均流腔環(huán)，其特征在于：所述抵接組件(20)包括固定在凹槽(2)內(nèi)壁上的安裝塊(21)、滑移在安裝塊(21)上的抵接桿(22)、固定在抵接桿(22)下端的抵接塊(23)、套設(shè)在抵接桿(22)外壁上的彈簧(24)，所述彈簧(24)一端抵接在安裝塊(21)上，另一端抵接在抵接塊(23)上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種晶圓加工用的均流腔環(huán)，其特征在于：所述第四板(18)朝向第一板(3)一側(cè)固定有若干個(gè)定位塊(25)，所述抵接塊(23)側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有用于嵌設(shè)定位塊(25)的定位槽(26)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓加工用的均流腔環(huán)，其特征在于：所述環(huán)體(1)的外壁上間隔均勻的固定有若干個(gè)加強(qiáng)塊(27)，所述加強(qiáng)塊(27)的側(cè)壁上貫穿開(kāi)設(shè)有用于固定安裝整個(gè)環(huán)體(1)的安裝孔(28)，所述環(huán)體(1)的內(nèi)腔側(cè)壁上間隔均勻的開(kāi)設(shè)有若干個(gè)用于釋放應(yīng)力的工藝槽(29)。