[發明專利]一種真空爐用水密封結構有效
| 申請號: | 202110560029.5 | 申請日: | 2021-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN113266676B | 公開(公告)日: | 2023-01-31 |
| 發明(設計)人: | 王志寬;王雪 | 申請(專利權)人: | 山東榮泰感應科技有限公司 |
| 主分類號: | F16J15/14 | 分類號: | F16J15/14;B22D35/04;B22D27/15 |
| 代理公司: | 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221 | 代理人: | 孟雪 |
| 地址: | 261200 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 真空爐 水密 結構 | ||
本發明公開了一種真空爐用水密封結構,它屬于真空爐領域,包括爐體支撐架,所述爐體支撐架上設有真空爐,所述真空爐頂部設有澆注口,所述澆注口兩側設有鉸接軸與所述爐體支撐架一側頂部鉸接;所述真空爐澆注口方向設有真空澆注通道,所述真空澆注通道設置在爐體支撐架一側并位于澆注口一側底部,所述真空澆注通道外圍設有水密封槽,所述水密封槽中設有水;所述澆注口上方設有密封罩,所述密封罩扣設在水密封槽中,所述密封罩隨真空爐傾翻且密封罩端部始終位于水密封槽中水的液面以下。
技術領域
本發明涉及真空爐領域,具體涉及一種真空爐用水密封結構。
背景技術
真空熔煉爐其熔煉、澆注是在一個真空腔內,內設流槽、隔離閥等結構,然而上述傳統結構真空腔體占地面積大,結構復雜,成本較高,后期維護檢修非常不方便;
為了降低相關成本,僅在熔煉部分采用抽真空結構,然而此時澆注則會出現與大氣接觸的情況,無法隔離空氣,難以保證真空度要求,使得最終的產品產生微小瑕疵。
有鑒于上述現有技術存在的問題,本發明結合相關領域多年的設計及使用經驗,輔以過強的專業知識,設計制造了一種真空爐用水密封結構,來克服上述缺陷。
發明內容
對于現有技術中所存在的問題,本發明提供的一種真空爐用水密封結構,能夠保證澆注過程無空氣接觸,同時不影響爐體傾翻澆注。
為了實現上述目的,本發明采用的技術方案如下:一種真空爐用水密封結構,包括爐體支撐架,所述爐體支撐架上設有真空爐,所述真空爐頂部設有澆注口,所述澆注口兩側設有鉸接軸與所述爐體支撐架一側頂部鉸接;
所述真空爐澆注口方向設有真空澆注通道,所述真空澆注通道設置在爐體支撐架一側并位于澆注口一側底部,所述真空澆注通道外圍設有水密封槽,所述水密封槽中設有水;
所述澆注口上方設有密封罩,所述密封罩扣設在水密封槽中,所述密封罩隨真空爐傾翻且密封罩端部始終位于水密封槽中水的液面以下。
優選的,所述真空澆注通道底部設有流槽,所述流槽底部設有通道支架支撐。
優選的,所述流槽上連通有抽真空接頭。
該發明的有益之處在于:
1.本發明利用密封罩始終位于水密封槽中水的液面以下這種結構,隔絕了大氣,保證了澆注過程中的真空度,結構簡單且靈活,不僅不影響真空爐的傾翻,還起到了隔絕空氣的效果,保證了產品質量。
2.本發明提前對真空澆注通道進行抽真空,便可與澆注的真空爐實現真空澆注對接,成本低,維護方便,且不增加任何占地面積。
附圖說明
圖1為一種真空爐用水密封結構的主視圖;
圖2為一種真空爐用水密封結構的側視圖;
圖3為一種真空爐用水密封結構的工作示意圖。
圖中:1-爐體支撐架、2-真空爐、3-密封罩、4-真空澆注通道、5-水密封槽、6-澆注口、7-流槽、8-抽真空接頭、9-鉸接軸、10-通道支架支撐。
具體實施方式
為了便于本領域技術人員理解,下面結合附圖對本發明作進一步的說明。
如圖1至圖3所示,一種真空爐2用水密封結構,包括爐體支撐架1,爐體支撐架1上設有真空爐2,真空爐2頂部設有澆注口6,澆注口6兩側設有鉸接軸9與爐體支撐架1一側頂部鉸接,真空爐2繞鉸接軸9傾翻通過澆注口6流出加熱的鐵水。
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