[發明專利]一種大功率發射機功率陷波方法和陷波組件

有效

• 申請號: 202110559104.6
• 申請日: 2021-05-21
• 公開（公告）號: CN113114288B
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發明（設計）人: 王海龍;來晉明;王超杰;陸燕輝;林杰;趙偉星;淦華
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第二十九研究所
• 主分類號: H04B1/04
• 分類號: H04B1/04
• 代理公司: 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214
• 代理人: 吳彥峰

1.一種大功率發射機功率陷波方法，其特征在于，包括：

確定輸入的激勵信號待陷波的頻段，進行一次反射式濾波處理；

對經過第一次濾波處理的激勵信號進行功率放大之后生成功率放大信號；

將功率放大信號進行二次反射式濾波處理，二次反射式濾波處理的帶寬小于一次反射式濾波處理的帶寬，處理后生成輸出信號；其中：

一次反射式濾波處理和二次反射式濾波處理的中心頻率f0相等，中心頻率f0為可調節量，且f0根據待陷波的頻段需要進行設定；

一次反射式濾波處理的帶寬為BW+2*Δf，其中BW為二次反射式濾波器帶寬，Δf為浮動頻率，浮動頻率根據需要進行陷波的頻段進行設定，一次反射式濾波處理時的頻率范圍為f0±(BW/2+Δf)；

二次反射式濾波處理的帶寬為BW，二次反射式濾波處理的頻率范圍為f0±BW/2。

2.一種大功率發射機功率陷波組件，其特征在于：包括功率放大模塊(2)，功率放大模塊(2)的輸入端連接一次帶阻濾波模塊(1)，功率放大模塊(2)的輸出端連接二次帶阻濾波模塊(3)，還包括用于接收陷波控制信號的供電與控制模塊(4)，所述的供電與控制模塊(4)分別電連接功率放大模塊(2)、一次帶阻濾波模塊(1)和二次帶阻濾波模塊(3)并通信；其中：

所述的一次帶阻濾波模塊(1)和二次帶阻濾波模塊(3)均采用反射式陷波濾波器；一次帶阻濾波模塊(1)進行一次反射式濾波處理和二次反射式濾波處理的中心頻率f0相等，中心頻率f0為可調節量，且f0根據待陷波的頻段需要進行設定；二次帶阻濾波模塊(3)進行二次反射式濾波處理的帶寬為BW，二次反射式濾波處理的頻率范圍為f0±BW/2；

所述的一次帶阻濾波模塊(1)和二次帶阻濾波模塊(3)均采用中心頻率可調節的陷波濾波器。