[發明專利]一種高隱形雙信息加密/解密的光子晶體圖案的制備方法

有效

• 申請號: 202110555404.7
• 申請日: 2021-05-25
• 公開（公告）號: CN113292757B
• 公開（公告）日: 2022-11-01
• 發明（設計）人: 李垚;潘夢瑤;趙九蓬
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: C08J7/12
• 分類號: C08J7/12;C08J9/36;C08J9/40;C08J5/18;C08L71/02
• 代理公司: 哈爾濱華夏松花江知識產權代理有限公司 23213
• 代理人: 侯靜

1.一種高隱形雙信息加密/解密的光子晶體圖案的制備方法，其特征在于該制備方法具體是按以下步驟完成的：

一、制備柔性自支撐的SiO₂-PEGDA -復合光子晶體薄膜：

①、采用改進的St?ber方法，制備SiO₂納米顆粒；將SiO₂納米顆粒分散到無水乙醇中，得到SiO₂納米顆粒的分散液；

步驟一①中所述的SiO₂納米顆粒的粒徑為162nm~205nm；

②、將SiO₂納米顆粒的分散液、PEGDA、光引發劑1173混合均勻，得到SiO₂光子懸浮液；

③、將SiO₂光子懸浮液放入鼓風干燥箱中進行濃縮，得到包裹著亞穩態SiO₂膠體光子晶體的濃縮液；

④、將包裹著亞穩態SiO₂膠體光子晶體的濃縮液轉移到兩塊載玻片形成的空隙中，再將紫外燈置于上層載玻片上方，在紫外光下對光子晶體的濃縮液進行聚合，得到固態的SiO₂-PEGDA的復合光子晶體薄膜；將SiO₂-PEGDA的復合光子晶體薄膜與兩塊載玻片分離，得到柔性自支撐的SiO₂-PEGDA復合光子晶體薄膜；

二、制備柔性自支撐的PEGDA的反蛋白石薄膜：

①、將柔性自支撐的SiO₂-PEGDA復合光子晶體薄膜放入到氫氟酸溶液中浸泡，去除SiO₂微球，得到去除SiO₂微球的薄膜；

②、對去除SiO₂微球的薄膜進行清洗，得到柔性自支撐的PEGDA的反蛋白石薄膜；

三、疏水改性：

①、將1H,1H,2H,2H-全氟辛基三氯硅烷放入玻璃器皿中，將柔性自支撐的PEGDA的反蛋白石薄膜與載玻片固定在一起，再將載玻片覆蓋到玻璃器皿瓶口處，柔性自支撐的PEGDA的反蛋白石薄膜朝向玻璃器皿瓶口內部；

步驟三①中所述的玻璃器皿容積為10mL~50mL，玻璃器皿中1H,1H,2H,2H-全氟辛基三氯硅烷的體積為20~35μL，柔性自支撐的PEGDA的反蛋白石薄膜的面積與玻璃器皿瓶口處的面積比為4:(9π~16π)；

②、將玻璃器皿、柔性自支撐的PEGDA的反蛋白石薄膜及載玻片轉移到真空干燥箱中進行疏水改性，得到一面為疏水的PEGDA的反蛋白石薄膜；

步驟三②中所述的疏水改性的溫度為60℃~170℃，疏水改性的時間為12h ~24h；

四、選擇性親水處理：

將掩模板放置到一面為疏水的PEGDA的反蛋白石薄膜的疏水面上，再轉移到氧等離子體清洗儀中，利用氧氣等離子體處理PEGDA的反蛋白石薄膜沒有被掩模板保護的區域，使得該區域親水，而被掩模板保護的區域依舊疏水，得到高隱形雙信息加密/解密的光子晶體圖案。

2.根據權利要求1所述的一種高隱形雙信息加密/解密的光子晶體圖案的制備方法，其特征在于步驟一①中采用改進的St?ber方法，制備SiO₂的納米顆粒是按以下步驟完成的：

①、將減壓蒸餾過的正硅酸乙酯和無水乙醇混合均勻，得到澄清的混合液A；

步驟①中所述的減壓蒸餾過的正硅酸乙酯與無水乙醇的體積比為(1~7):150；

②、將去離子水和質量分數為25%~28%的氨水混合均勻，得到澄清的混合液B；

步驟②中所述的去離子水與質量分數為25%~28%的氨水的體積比為(1~7):15；

③、澄清的混合液B倒入澄清的混合液A中，再在溫度為25~35℃磁力攪拌24~48h，混合液由澄清變成乳白色，得到乳白色的二氧化硅懸浮液；

步驟③中所述的澄清的混合液A與澄清的混合液B的體積比為1:1；

④、將乳白色的二氧化硅懸浮液進行離心，丟棄上清液，得到二氧化硅膠體微球；依次使用無水乙醇和超純水分別對二氧化硅膠體微球超聲清洗3次~5次，再自然干燥或放入鼓風干燥箱中烘干，得到SiO₂的納米顆粒。