[發(fā)明專利]一種合束裝置、激光加工設(shè)備和激光退火方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110552574.X
• 申請日: 2021-05-20
• 公開（公告）號: CN113422296A
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉金彪;羅軍;李俊峰;賀曉彬
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院微電子研究所
• 主分類號: H01S5/40
• 分類號: H01S5/40;H01S5/00;H01S3/23;H01S3/00;H01L21/67;H01L21/268
• 代理公司: 北京知迪知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11628
• 代理人: 王勝利

1.一種合束裝置，其特征在于，用于對波長不同的預(yù)熱光束和工藝光束進行合束，所述合束裝置包括光束整形元件和半透半反光學(xué)元件；

所述光束整形元件用于將預(yù)熱光束轉(zhuǎn)換為環(huán)形光束，并向所述半透半反光學(xué)元件提供所述環(huán)形光束；

所述半透半反光學(xué)元件用于反射所述環(huán)形光束和透射所述工藝光束，使得所述環(huán)形光束套設(shè)所述工藝光束上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合束裝置，其特征在于，所述光束整形元件具有透光本體以及形成在所述透光本體上的擋光部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的合束裝置，其特征在于，擋光部的形狀與所述工藝光束的橫截面形狀相同，所述工藝光束的外徑尺寸為d1，所述擋光部的外徑為d2，k＝d1-d2，k的范圍為0～100μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的合束裝置，其特征在于，被反射后的所述環(huán)形光束的中心光軸與所述工藝光束的中心光軸重合。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的合束裝置，其特征在于，所述擋光部為覆蓋在所述透光本體表面上的擋光膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的合束裝置，其特征在于，所述擋光膜為半導(dǎo)體薄膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合束裝置，其特征在于，所述光束整形元件為截止濾光片，所述截止濾光片具有截止區(qū)和通帶區(qū)，所述截止區(qū)形狀與所述工藝光束的橫截面形狀相同，所述通帶區(qū)環(huán)繞在所述截止區(qū)周圍。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項所述的合束裝置，其特征在于，所述環(huán)形光束為波長大于532nm的光束；所述工藝光束為波長小于132nm的光束。

9.一種激光加工設(shè)備，其特征在于，所述激光加工設(shè)備包括權(quán)利要求1-8中任一項所述的合束裝置。

10.一種激光退火方法，其特征在于，應(yīng)用于權(quán)利要求1-8中任一項所述的合束裝置，或應(yīng)用于權(quán)利要求9所述的激光加工設(shè)備；所述激光退火方法包括：

利用所述光束整形元件將所述預(yù)熱光束轉(zhuǎn)換為所述環(huán)形光束，向所述半透半反光學(xué)元件提供所述工藝光束；

利用所述半透半反光學(xué)元件反射所述環(huán)形光束和透射所述工藝光束，使得所述環(huán)形光束套設(shè)所述工藝光束上，形成混合光束；

利用所述混合光束對待退火對象進行退火。