[發(fā)明專利]一種彩膜基板及其制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110550904.1
• 申請日: 2021-05-19
• 公開（公告）號: CN113253510B
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張雷;袁海江
• 申請（專利權(quán)）人: 惠科股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 周麗琪

1.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供襯底，所述襯底包括遮光區(qū)和多個子像素區(qū)，所述遮光區(qū)將所述襯底分隔成多個間隔設(shè)置的所述子像素區(qū)；

在所述遮光區(qū)形成第一黑矩陣；

在所述襯底的設(shè)有所述第一黑矩陣的一側(cè)整面設(shè)置彩色光阻，轉(zhuǎn)移所述襯底，對所述彩色光阻進行圖案化處理并除去所述彩色光阻與所述第一黑矩陣接觸的部分，得到設(shè)于所述子像素區(qū)的彩色光阻層，所述彩色光阻層和所述第一黑矩陣之間具有間隙；

在所述遮光區(qū)形成第二黑矩陣，所述第二黑矩陣覆蓋于所述第一黑矩陣上且填充于所述彩色光阻層和所述第一黑矩陣之間的間隙。

2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，形成所述第一黑矩陣的步驟包括：

在所述襯底上設(shè)置遮光材料；

對所述遮光材料進行預烘烤處理，得到第一遮光層；

采用光罩對所述第一遮光層依次進行曝光、顯影和固化處理，得到所述第一黑矩陣。

3.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，形成所述第二黑矩陣的步驟包括：

在所述襯底和所述第一黑矩陣上整面涂布遮光材料；

對所述遮光材料進行預烘烤處理，得到第二遮光層；

采用光罩對所述第二遮光層依次進行曝光、顯影和固化處理，得到所述第二黑矩陣。

4.如權(quán)利要求2或3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，對所述遮光材料進行預烘烤處理的溫度為80℃～150℃，時間為60s～200s。

5.如權(quán)利要求2或3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，進行顯影處理的溫度為22℃～25℃，時間為40s～100s。

6.如權(quán)利要求2或3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，進行固化處理的溫度為230℃～240℃，時間為20min～60min。

7.如權(quán)利要求1至3任一項所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述襯底的設(shè)有所述第一黑矩陣的一側(cè)整面設(shè)置彩色光阻，轉(zhuǎn)移所述襯底，對所述彩色光阻進行圖案化處理并除去所述彩色光阻與所述第一黑矩陣接觸的部分，得到設(shè)于所述子像素區(qū)的彩色光阻層的步驟包括：

在所述襯底的設(shè)有所述第一黑矩陣的一側(cè)整面涂布彩色光阻材料；

轉(zhuǎn)移所述襯底，對所述彩色光阻材料進行預烘烤處理，得到光阻層；

采用光罩對所述光阻層依次進行曝光和顯影，除去所述光阻層與所述第一黑矩陣接觸的部分，對所述光阻層進行固化處理，得到所述彩色光阻層。

8.如權(quán)利要求1至3任一項所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩色光阻層包括分別設(shè)于對應的所述子像素區(qū)的紅色光阻層、綠色光阻層和藍色光阻層。

9.如權(quán)利要求1至3任一項所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述子像素區(qū)的開口面積為10800μm²～120000μm²。

10.一種彩膜基板，其特征在于，采用如權(quán)利要求1至9任一項所述的彩膜基板的制作方法制得，所述彩膜基板包括：

襯底，所述襯底包括遮光區(qū)和多個子像素區(qū)，所述遮光區(qū)將所述襯底分隔成多個間隔設(shè)置的所述子像素區(qū)；

第一黑矩陣，設(shè)于所述遮光區(qū)；

彩色光阻層，設(shè)于所述襯底的設(shè)有所述第一黑矩陣的一側(cè)，且設(shè)于所述子像素區(qū)，所述彩色光阻層和所述第一黑矩陣之間具有間隙；以及

第二黑矩陣，所述第二黑矩陣覆蓋于所述第一黑矩陣上且填充于所述彩色光阻層和所述第一黑矩陣之間的間隙。