[發(fā)明專利]一種抑制熒光粉中Eu3+

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110550035.2
• 申請日: 2021-05-20
• 公開（公告）號: CN113249119B
• 公開（公告）日: 2022-06-21
• 發(fā)明（設計）人: 張家驊;劉雪晴;張亮亮;吳昊;武華君;潘國徽
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: C09K11/59
• 分類號: C09K11/59
• 代理公司: 深圳市科進知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 魏毅宏

1.一種抑制BaSi₂O₂N₂: Eu²⁺熒光粉中Eu³⁺數(shù)量的方法，其特征在于，制備BaSi₂O₂N₂: Eu²⁺熒光粉的原料中包括三價金屬氧化物M₂O₃；

M為Er、Dy、Tm中的至少一種；

制備BaSi₂O₂N₂: Eu²⁺熒光粉的原料組分包括BaCO₃、Eu₂O₃、M₂O₃、SiO₂和Si₃N₄，摩爾比為(2-2x-3y)：x：y：1：1，制備得到的BaSi₂O₂N₂: Eu²⁺熒光粉的化學通式為Ba_1-x-1.5yM_ySi₂O₂N₂:xEu²⁺；其中，0.01≤x≤0.04，0.001≤y≤0.04；

包括下述過程：

按化學計量比稱取原料組分BaCO₃、Eu₂O₃、M₂O₃、SiO₂和Si₃N₄，研磨混合均勻，得到的混合物粉體；

將混合物粉體在還原氣氛下進行高溫燒結(jié)；

燒結(jié)完成后，冷卻至室溫，研磨。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抑制BaSi₂O₂N₂: Eu²⁺熒光粉中Eu³⁺數(shù)量的方法，其特征在于，所述還原氣氛為氫氣還原氣氛。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抑制BaSi₂O₂N₂: Eu²⁺熒光粉中Eu³⁺數(shù)量的方法，其特征在于，高溫燒結(jié)的燒結(jié)溫度為1200～1600℃，燒結(jié)時間為2～10h。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的抑制BaSi₂O₂N₂: Eu²⁺熒光粉中Eu³⁺數(shù)量的方法，其特征在于，高溫燒結(jié)的燒結(jié)溫度為1300～1500℃，燒結(jié)時間為5～7h。