[發(fā)明專利]基于計(jì)算機(jī)視覺(jué)的光伏電池板鍍膜脫落預(yù)測(cè)方法及系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110549273.1
• 申請(qǐng)日: 2021-05-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113177933A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-07-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梁學(xué)明;胡孟春
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 河南農(nóng)道智能科技有限公司
• 主分類號(hào): G06T7/00
• 分類號(hào): G06T7/00;G06T7/11;G06T7/13;G06T7/62
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種基于計(jì)算機(jī)視覺(jué)的光伏電池板鍍膜脫落預(yù)測(cè)方法，其特征在于，所述方法包括：

在預(yù)設(shè)的檢測(cè)周期的初始時(shí)刻和終止時(shí)刻獲得光伏電池板的初始圖像和終止圖像；

將所述初始圖像送入預(yù)先訓(xùn)練好的分割網(wǎng)絡(luò)中，獲得鍍膜脫落區(qū)域；

以所述鍍膜脫落區(qū)域在所述初始圖像中的平均灰度與標(biāo)準(zhǔn)光伏電池板的平均灰度差異作為第一灰度差異；獲得所述鍍膜脫落區(qū)域在所述終止圖像中的第二灰度差異；以所述第二灰度差異與所述第一灰度差異的比值作為灰塵累積度；

獲取所述光伏電池板清理后的灰塵殘留度；所述灰塵殘留度通過(guò)所述灰塵累積度和所述鍍膜脫落區(qū)域面積獲得；

獲得所述鍍膜脫落區(qū)域的第一邊緣；在下一次所述檢測(cè)周期后獲得第二邊緣；以所述第一邊緣和所述第二邊緣包圍的區(qū)域作為所述當(dāng)前鍍膜脫落增長(zhǎng)區(qū)域；

通過(guò)所述當(dāng)前鍍膜脫落增長(zhǎng)區(qū)域、所述灰塵累積度和所述灰塵殘留度構(gòu)建預(yù)測(cè)未來(lái)鍍膜脫落增長(zhǎng)區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于計(jì)算機(jī)視覺(jué)的光伏電池板鍍膜脫落預(yù)測(cè)方法，其特征在于，所述灰塵殘留度通過(guò)所述灰塵累積度和所述鍍膜脫落區(qū)域面積獲得包括：

當(dāng)所述鍍膜脫落區(qū)域面積小于等于第一面積閾值時(shí)，所述灰塵殘留度等于所述灰塵累積度；當(dāng)所述鍍膜脫落區(qū)域面積大于等于第二面積閾值時(shí)，所述灰塵殘留度等于零；所述第二面積閾值大于所述第一面積閾值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于計(jì)算機(jī)視覺(jué)的光伏電池板鍍膜脫落預(yù)測(cè)方法，其特征在于，獲得所述鍍膜脫落區(qū)域面積后還包括：若所述鍍膜脫落區(qū)域面積大于預(yù)設(shè)第三面積閾值時(shí)，則認(rèn)定光伏電池板損壞；所述第三面積閾值大于所述第二面積閾值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于計(jì)算機(jī)視覺(jué)的光伏電池板鍍膜脫落預(yù)測(cè)方法，其特征在于，通過(guò)所述灰塵累積度和所述鍍膜脫落區(qū)域面積獲得灰塵殘留度具體包括：

其中，F(xiàn)_residual為所述灰塵殘留度，F(xiàn)_cumulant為所述灰塵累積度，α為優(yōu)化系數(shù)，ε為面積相關(guān)參數(shù)；ε具體表示為：

其中，s_i為第i個(gè)所述鍍膜脫落面積，s₁為所述第一面積閾值，s₂為所述第二面積閾值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于計(jì)算機(jī)視覺(jué)的光伏電池板鍍膜脫落預(yù)測(cè)方法，其特征在于，通過(guò)所述鍍膜脫落增長(zhǎng)區(qū)域、所述灰塵累積度和所述灰塵殘留度構(gòu)建預(yù)測(cè)所述鍍膜脫落增長(zhǎng)區(qū)域包括利用鍍膜脫落增長(zhǎng)面積預(yù)測(cè)模型獲得所述鍍膜脫落增長(zhǎng)區(qū)域：

其中，ΔS_n為預(yù)測(cè)出的第n次檢測(cè)周期的鍍膜脫落增長(zhǎng)面積；μ和β為模型優(yōu)化系數(shù)；F_residual為所述灰塵殘留度；F_cumulant為所述灰塵累積度；ΔS₀為第一次檢測(cè)到鍍膜脫落時(shí)的所述鍍膜脫落區(qū)域面積；為灰塵累計(jì)度達(dá)到最大值時(shí)第m個(gè)所述鍍膜脫落區(qū)域與標(biāo)準(zhǔn)電池板灰度的平均差值，為第一次檢測(cè)時(shí)第m個(gè)所述鍍膜脫落區(qū)域的第一灰度差異。