[發明專利]玻璃基板生產爐及溢流磚有效
| 申請號: | 202110548099.9 | 申請日: | 2021-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN113233740B | 公開(公告)日: | 2023-02-07 |
| 發明(設計)人: | 李青;李赫然;宋義鋒;陳英;郭志勝 | 申請(專利權)人: | 河南旭陽光電科技有限公司;東旭科技集團有限公司;東旭光電科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C03B17/06 | 分類號: | C03B17/06;C03B5/00;C03B5/16 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產權代理有限公司 11283 | 代理人: | 邱成杰;岳永先 |
| 地址: | 455000 河南省安陽市安陽縣瓦*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃 生產 溢流 | ||
本發明涉及玻璃基板生產領域,公開了一種玻璃基板生產爐及溢流磚,其中,所述玻璃基板生產爐包括溢流磚(1),所述溢流磚(1)包括兩個在底部交匯形成磚尖輪廓線(12)的側面(11),所述磚尖輪廓線(12)在常溫下為從底部向頂部凹陷的弧形線,并且所述磚尖輪廓線(12)在工作溫度下為直線。通過上述技術方案,將溢流磚的高溫變形的特點納入考慮,磚尖處的輪廓線在常溫下設計為弧形,從而可以在高溫變形后及重力作用下形成為直線,以保證玻璃基板生產的質量,避免磚尖變形為向下凸出的弧形后影響玻璃基板的質量。
技術領域
本發明涉及玻璃生產領域,具體地涉及一種玻璃基板生產爐,還涉及一種溢流磚。
背景技術
目前在光電玻璃基板生產中現有溢流下拉法和浮法兩種方式。使用溢流下拉法生產光電玻璃基板是通過熔融的玻璃液流進溢流磚內,慢慢由溢流磚兩側磚沿溢出,形成兩面玻璃流,在下流至溢流磚磚尖時匯流成一片玻璃,并通過牽引輥輪拉動成板,此方法是溢流下拉法的制板工藝過程。
玻璃基板的寬度主要取決于溢流磚的長度,溢流磚越長,玻璃基板就越寬,要確保熔融的玻璃液在溢流磚內的流動就需要馬弗爐內保持1300℃的高溫。溢流磚是用特種陶瓷耐高溫材料制作而成,在馬弗爐中溢流磚磚體兩端有支撐,長期在高溫下會發生蠕變,在溢流磚蠕動變形過程中磚體中間部分會慢慢下沉,磚體越長,變形越大磚體下沉越多。磚體變形改變了溢流磚的尺寸精度直接影響熔融的玻璃液在溢流磚內的流動分布,造成生產出來的玻璃基板厚度不均勻,嚴重變形也會導致溢流磚斷裂、停產。
發明內容
本發明的目的是提供一種玻璃基板生產爐,以解決溢流爐容易下沉變形的問題。
為了實現上述目的,本發明一方面提供一種玻璃基板生產爐,其中,所述玻璃基板生產爐包括溢流磚,所述溢流磚包括兩個在底部交匯形成磚尖輪廓線的側面,所述磚尖輪廓線在常溫下為從底部向頂部凹陷的弧形線,并且所述磚尖輪廓線在工作溫度下為直線。
可選擇的,在常溫下,兩個所述側面為凹面,在所述工作溫度下,兩個所述側面均為平坦表面。
可選擇的,所述玻璃基板生產爐包括設置在所述溢流磚的水平兩端的支撐座,所述支撐座向所述溢流磚施加相對于水平方向向上傾斜的支撐力。
可選擇的,垂直于所述溢流磚的兩端端面的直線相對于水平方向向上傾斜,所述支撐座包括與所述端面貼合的支撐面。
可選擇的,所述玻璃基板生產爐包括能夠沿水平方向驅動所述支撐座移動的驅動機構。
可選擇的,所述驅動機構包括電機和絲杠,所述電機通過絲杠傳動連接于所述支撐座。
可選擇的,所述玻璃基板生產爐包括溫度傳感器,所述溫度傳感器朝向形成為直線的所述磚尖輪廓線的下側。
可選擇的,所述溫度傳感器包括沿水平方向直線排列的多個感溫探頭。
可選擇的,所述玻璃基板生產爐還包括與所述溫度傳感器通信連接的控制元件,所述控制元件能夠根據所述溫度傳感器提供的信息控制所述支撐座移動。
另外,本發明還提供了一種溢流磚,其中,所述溢流磚為以上方案所述的溢流磚。
通過上述技術方案,將溢流磚的高溫變形的特點納入考慮,磚尖處的輪廓線在常溫下設計為弧形,從而可以在高溫變形后及重力作用下形成為直線,以保證玻璃基板生產的質量,避免磚尖變形為向下凸出的弧形后影響玻璃基板的質量。
附圖說明
圖1是本發明實施方式所述的玻璃基板生產爐處于常溫的示意圖;
圖2是本發明實施方式所述的玻璃基板生產爐處于工作溫度的示意圖;
圖3是本發明實施方式所述的溢流磚和溫度傳感器的示意圖;
圖4是本發明實施方式所述的感溫探頭的示意圖。
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