[發(fā)明專利]一種基于介質(zhì)基超構(gòu)材料的F-P腔天線及電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110542444.8 | 申請(qǐng)日: | 2021-05-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113285233B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張富利;蔡偉奇;樊元成;付全紅;楊蕤生;楊帆 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西北工業(yè)大學(xué)深圳研究院;西北工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01Q15/00 | 分類號(hào): | H01Q15/00;H01Q15/14 |
| 代理公司: | 西北工業(yè)大學(xué)專利中心 61204 | 代理人: | 屠沛 |
| 地址: | 518057 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 介質(zhì) 基超構(gòu) 材料 天線 電子設(shè)備 | ||
1.一種基于介質(zhì)基超構(gòu)材料的F-P腔天線,其特征在于:包括平行設(shè)置的上基板和下基板;上基板和下基板構(gòu)成一個(gè)腔體,且兩者之間的距離可調(diào);
所述上基板的上表面設(shè)置有近零折射結(jié)構(gòu)覆層,下表面設(shè)置有介質(zhì)基相位調(diào)控反射層;其中,介質(zhì)基相位調(diào)控反射層包括周期性排列的介質(zhì)基相位調(diào)控反射單元;所述介質(zhì)基相位調(diào)控反射層選用的介質(zhì)為氧化鋁介質(zhì)顆粒;
所述下基板的上表面設(shè)置有饋源天線和金屬基相位調(diào)控反射層,下表面設(shè)置有金屬地板結(jié)構(gòu);
所述饋源天線位于中部,金屬基相位調(diào)控反射層位于饋源天線的外側(cè);金屬基相位調(diào)控反射層包括周期性排列的金屬貼片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于介質(zhì)基超構(gòu)材料的F-P腔天線,其特征在于:
所述近零折射結(jié)構(gòu)覆層為漁網(wǎng)型金屬網(wǎng)線陣列。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一所述基于介質(zhì)基超構(gòu)材料的F-P腔天線,其特征在于:
所述上基板和下基板選用聚四氟乙烯纖維玻璃板、Rogers4350b基板或環(huán)氧纖維玻璃板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述基于介質(zhì)基超構(gòu)材料的F-P腔天線,其特征在于:
所述饋源天線采用貼片天線。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述基于介質(zhì)基超構(gòu)材料的F-P腔天線,其特征在于:
所述介質(zhì)基相位調(diào)控反射單元的形狀為菱形、矩形、六邊形、三角形和圓形的任意一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述基于介質(zhì)基超構(gòu)材料的F-P腔天線,其特征在于:
所述上基板和下基板的基材均選用Rogers4350b,且尺寸為160×1602
mm;
所述近零折射結(jié)構(gòu)覆層的金屬貼片為十字型,金屬線長(zhǎng)l1為4mm,金屬線寬w1為1.2mm;
所述介質(zhì)基相位調(diào)控反射單元的橫截面為正方形,邊長(zhǎng)l2為3.5mm,高度t1為2mm;
所述貼片天線的尺寸為a1×a2,a1為6.8mm,a2為7.0mm;
所述金屬基相位調(diào)控反射層的金屬貼片邊長(zhǎng)l3為3.5mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述基于介質(zhì)基超構(gòu)材料的F-P腔天線,其特征在于:
將上基板與下基板的間距從3.0mm調(diào)節(jié)至3.6mm時(shí),其對(duì)應(yīng)工作頻率由10.06GHz變化到9.88GHz,共計(jì)變化180MHz。
8.一種電子設(shè)備,其特征在于:采用權(quán)利要求1~7任一所述基于介質(zhì)基超構(gòu)材料的F-P腔天線。
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