[發(fā)明專利]音圈電機(jī)、攝像模塊以及移動(dòng)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110535872.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-07-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113382136B | 公開(公告)日: | 2023-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李準(zhǔn)澤;李成國 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | LG伊諾特有限公司 |
| 主分類號(hào): | H04N23/57 | 分類號(hào): | H04N23/57;H04N23/55;G02B7/09;G02B27/00;G02B27/64;G02B7/08 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 王萍;李彥麗 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電機(jī) 攝像 模塊 以及 移動(dòng) 裝置 | ||
1.一種音圈電機(jī),所述音圈電機(jī)包括:
基部;
布置在所述基部上方的保持構(gòu)件;
布置在所述保持構(gòu)件中的線圈架;
布置在所述線圈架上的線圈;以及
面向所述線圈并且布置在所述保持構(gòu)件與所述基部之間的磁體,
其中,所述保持構(gòu)件包括底部敞開的磁體接收部,
其中,所述基部包括形成在所述基部的上表面上的突起,
其中,所述磁體布置在所述保持構(gòu)件的所述磁體接收部與所述基部的所述突起之間,
其中,所述保持構(gòu)件包括形成在所述保持構(gòu)件的下表面上的凹部,
其中,所述基部包括形成在所述基部的上表面上的凸部,
其中,所述基部的所述凸部布置在與所述凹部的位置相對(duì)應(yīng)的位置處,
其中,所述保持構(gòu)件包括彼此相對(duì)的第一側(cè)部和第二側(cè)部以及彼此相對(duì)的第三側(cè)部和第四側(cè)部,
其中,所述磁體包括布置在所述保持構(gòu)件的所述第一側(cè)部上的第一磁體、布置在所述保持構(gòu)件的所述第二側(cè)部上的第二磁體、布置在所述保持構(gòu)件的所述第三側(cè)部上的第三磁體和布置在所述保持構(gòu)件的所述第四側(cè)部上的第四磁體,并且
其中,所述基部的所述凸部包括第一凸部,所述第一凸部在與光軸方向垂直的第一方向上與所述第一磁體交疊并且在與所述第一方向和所述光軸方向垂直的第二方向上與所述第三磁體交疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的音圈電機(jī),包括耦接至所述基部的防護(hù)殼,
其中,所述防護(hù)殼包括彼此相對(duì)的第一側(cè)板和第二側(cè)板以及彼此相對(duì)的第三側(cè)板和第四側(cè)板,
其中,所述第一磁體布置在所述第一側(cè)板與所述線圈之間,
其中,所述第二磁體布置在所述第二側(cè)板與所述線圈之間,
其中,所述第三磁體布置在所述第三側(cè)板與所述線圈之間,并且
其中,所述第四磁體布置在所述第四側(cè)板與所述線圈之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的音圈電機(jī),其中,所述基部的所述凸部包括在所述第一方向上與所述第二磁體交疊并且在所述第二方向上與所述第三磁體交疊的第二凸部、在所述第一方向上與所述第二磁體交疊并且在所述第二方向上與所述第四磁體交疊的第三凸部以及在所述第一方向上與所述第一磁體交疊并且在所述第二方向上與所述第四磁體交疊的第四凸部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的音圈電機(jī),其中,所述保持構(gòu)件的所述磁體接收部包括四個(gè)磁體接收部,并且
其中,所述第一磁體至所述第四磁體分別布置在所述四個(gè)磁體接收部上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的音圈電機(jī),其中,所述基部包括形成在所述突起與所述凸部之間的插槽,并且
其中,所述保持構(gòu)件包括插入到所述基部的所述插槽的插入凸耳。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的音圈電機(jī),其中,所述插入凸耳布置在所述第一磁體至所述第四磁體中的每個(gè)磁體的兩個(gè)側(cè)面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的音圈電機(jī),其中,所述基部的所述凸部布置在所述基部的角部區(qū)域處。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的音圈電機(jī),其中,所述凸部的上表面被布置成高于所述突起的上表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的音圈電機(jī),其中,所述保持構(gòu)件的所述磁體接收部的上表面與所述基部的所述突起的上表面之間的距離與所述磁體的高度相對(duì)應(yīng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的音圈電機(jī),其中,所述磁體的與所述保持構(gòu)件的外圍相對(duì)應(yīng)的表面和所述磁體的與所述保持構(gòu)件的內(nèi)表面相對(duì)應(yīng)的表面布置有相互不同的磁極。
11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的音圈電機(jī),其中,所述基部包括系留部,所述系留部形成在所述基部的側(cè)表面上,并且
其中,所述防護(hù)殼布置在所述基部的所述系留部上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于LG伊諾特有限公司,未經(jīng)LG伊諾特有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110535872.8/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





