[發明專利]一種進氣道反壓裝置以及在進氣道中形成反壓分布的方法有效
| 申請號: | 202110532938.8 | 申請日: | 2021-05-17 |
| 公開(公告)號: | CN113295374B | 公開(公告)日: | 2022-08-23 |
| 發明(設計)人: | 周永易;趙一龍;趙玉新;王振國 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍國防科技大學 |
| 主分類號: | G01M9/06 | 分類號: | G01M9/06 |
| 代理公司: | 中國和平利用軍工技術協會專利中心 11215 | 代理人: | 劉光德 |
| 地址: | 410073 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 進氣道反壓 裝置 以及 進氣道中 形成 分布 方法 | ||
1.一種進氣道反壓裝置,其特征在于,所述反壓裝置位于所述進氣道的隔離段與下游出口之間,所述反壓裝置包括:高壓進氣孔、至少兩個集氣腔、射流孔、電子控制減壓閥、高壓氣源腔、計算機控制系統、同步器、電磁減壓閥控制信號線以及集氣腔壓力反饋信號線;
其中:
所述高壓氣源腔經由所述高壓進氣孔向所述集氣腔提供高壓氣源,并且由位于所述高壓氣源腔上的所述電子控制減壓閥來控制所述高壓氣源的射流;
所述集氣腔的內壁設置有所述射流孔,通過所述射流孔噴射所述高壓氣源;
所述集氣腔內部為連通結構,所述連通結構內各處氣壓相等;
利用所述高壓氣源的射流增強所述進氣道中的質量流量,以獲取所述反壓裝置的反壓效果;具體包括,通過調節各個所述集氣腔的射流孔的射流時序和射流力量,以在所述進氣道中形成非對稱的反壓分布。
2.根據權利要求1所述的一種進氣道反壓裝置,其特征在于,調節所述集氣腔的射流孔的射流時序具體為,由所述計算機控制系統控制所述同步器,經由所述電磁減壓閥控制信號線,向所述電子控制減壓閥發送脈沖時序信號,以控制所述高壓氣源的射流時序。
3.根據權利要求2所述的一種進氣道反壓裝置,其特征在于,調節所述集氣腔的射流孔的射流流量具體為,由所述集氣腔的總壓調節所述射流孔的射流流量:
其中,K為常數,p0和T0分別為所述集氣腔內的總壓和總溫,當射流的噴射速度為聲速時,q(λ)=1,σ為所述射流孔的面積。
4.根據權利要求1所述的一種進氣道反壓裝置,其特征在于,所述反壓裝置的構型為方形或圓形。
5.一種在進氣道中形成反壓分布的方法,其特征在于,所述方法利用進氣道反壓裝置來實現,所述反壓裝置位于所述進氣道的隔離段與下游出口之間,所述反壓裝置包括:高壓進氣孔、至少兩個集氣腔、射流孔、電子控制減壓閥、高壓氣源腔、計算機控制系統、同步器、電磁減壓閥控制信號線以及集氣腔壓力反饋信號線;
其中:
所述高壓氣源腔經由所述高壓進氣孔向所述集氣腔提供高壓氣源,并且由位于所述高壓氣源腔上的所述電子控制減壓閥來控制所述高壓氣源的射流;
所述集氣腔的內壁設置有所述射流孔,通過所述射流孔噴射所述高壓氣源;
所述集氣腔內部為連通結構,所述連通結構內各處氣壓相等;
所述方法具體包括:
利用所述高壓氣源的射流增強所述進氣道中的質量流量,以獲取所述反壓裝置的反壓效果;具體包括,通過調節各個所述集氣腔的射流孔的射流時序和射流力量,以在所述進氣道中形成非對稱的反壓分布。
6.根據權利要求5所述的一種在進氣道中形成反壓分布的方法,其特征在于:
調節所述集氣腔的射流孔的射流時序具體為,由所述計算機控制系統控制所述同步器,經由所述電磁減壓閥控制信號線,向所述電子控制減壓閥發送脈沖時序信號,以控制所述高壓氣源的射流時序;
調節所述集氣腔的射流孔的射流流量具體為,由所述集氣腔的總壓調節所述射流孔的射流流量:
其中,K為常數,p0和T0分別為所述集氣腔內的總壓和總溫,當射流的噴射速度為聲速時,q(λ)=1,σ為所述射流孔的面積。
7.根據權利要求5所述的一種在進氣道中形成反壓分布的方法,其特征在于,所述反壓裝置的構型為方形或圓形。
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