[發(fā)明專利]一種全斷面放射型注漿工藝及設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110530148.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-05-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113047848B | 公開(公告)日: | 2022-08-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 付琪生;康軍利;吳英昊;胡軍;宋洋;董偉;袁宇超;弭偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中鐵二十四局集團(tuán)有限公司北京分公司;中鐵二十四局集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | E21D9/00 | 分類號(hào): | E21D9/00;E21D11/10 |
| 代理公司: | 北京紐樂康知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11210 | 代理人: | 田磊 |
| 地址: | 100076 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 斷面 放射 型注漿 工藝 設(shè)備 | ||
1.一種全斷面放射型注漿工藝,其特征在于,使用一種全斷面放射型注漿設(shè)備,該全斷面放射型注漿設(shè)備包括:
插管模塊,用于在所述全斷面上插入注漿管,包括在所述注漿管遠(yuǎn)離所述全斷面的后端焊接環(huán)繞于所述注漿管外部的環(huán)形箍筋,以及將所述注漿管的前端打入所述全斷面內(nèi),在所述注漿管的側(cè)壁上設(shè)置多個(gè)呈梅花形布置的溢漿孔,且所述溢漿孔與注漿管后端的距離均大于0.8米;
注漿模塊,用于以大于或者等于5兆帕的注漿壓力向所述注漿管內(nèi)注入漿液,首先用吹風(fēng)管將所述注漿管內(nèi)的砂石吹出,然后用塑膠泥封堵所述注漿管的周圍和墻面裂隙,或者在所述注漿管的周圍和墻面噴8-10厘米厚的混凝土封閉,最后對(duì)所述注漿管進(jìn)行注漿;
檢測(cè)模塊,用于檢測(cè)所述注漿管內(nèi)的注漿狀態(tài),包括按預(yù)設(shè)時(shí)間間隔,周期性檢測(cè)所述注漿管內(nèi)的壓力值和/或注漿量;其中所述注漿狀態(tài)包括所述注漿管內(nèi)的壓力值和/或注漿量,表征所述注漿管內(nèi)注入的漿液的完成情況和完成效果;以及
停止模塊,用于當(dāng)所述注漿狀態(tài)滿足第一預(yù)設(shè)條件時(shí),停止注漿,利用雷達(dá)檢測(cè)所述全斷面內(nèi)的強(qiáng)度狀態(tài);其中所述強(qiáng)度狀態(tài)包括所述全斷面內(nèi)的土質(zhì)狀態(tài)和填充狀態(tài);以及當(dāng)所述強(qiáng)度狀態(tài)滿足第二預(yù)設(shè)條件時(shí),向所述注漿管內(nèi)補(bǔ)充漿液;
所述全斷面放射型注漿工藝包括:
獲取施工區(qū)域的施工位置信息,所述施工位置信息包括施工區(qū)域的邊界坐標(biāo),確定注漿管的鉆孔位置和鉆孔方向,且設(shè)置在施工區(qū)域的邊界上的所有注漿管構(gòu)成的弧度為120度;
在所述全斷面上插入注漿管,包括在所述注漿管遠(yuǎn)離所述全斷面的后端焊接環(huán)繞于所述注漿管外部的環(huán)形箍筋,以及將所述注漿管的前端打入所述全斷面內(nèi),在所述注漿管的側(cè)壁上設(shè)置多個(gè)呈梅花形布置的溢漿孔,且所述溢漿孔與注漿管后端的距離均大于0.8米;
以大于或者等于5兆帕的注漿壓力向所述注漿管內(nèi)注入漿液,首先用吹風(fēng)管將所述注漿管內(nèi)的砂石吹出,然后用塑膠泥封堵所述注漿管的周圍和墻面裂隙,或者在所述注漿管的周圍和墻面噴8-10厘米厚的混凝土封閉,最后對(duì)所述注漿管進(jìn)行注漿;
檢測(cè)所述注漿管內(nèi)的注漿狀態(tài),包括按預(yù)設(shè)時(shí)間間隔,周期性檢測(cè)所述注漿管內(nèi)的壓力值和/或注漿量;其中所述注漿狀態(tài)包括所述注漿管內(nèi)的壓力值和/或注漿量,表征所述注漿管內(nèi)注入的漿液的完成情況和完成效果;以及
當(dāng)所述注漿狀態(tài)滿足第一預(yù)設(shè)條件時(shí),停止注漿,利用雷達(dá)檢測(cè)所述全斷面內(nèi)的強(qiáng)度狀態(tài);其中所述強(qiáng)度狀態(tài)包括所述全斷面內(nèi)的土質(zhì)狀態(tài)和填充狀態(tài);以及當(dāng)所述強(qiáng)度狀態(tài)滿足第二預(yù)設(shè)條件時(shí),向所述注漿管內(nèi)補(bǔ)充漿液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全斷面放射型注漿工藝,其特征在于,所述當(dāng)所述注漿狀態(tài)滿足第一預(yù)設(shè)條件時(shí),停止注漿包括:
當(dāng)所述注漿管內(nèi)的壓力值大于或等于預(yù)設(shè)的壓力閾值,且所述注漿管內(nèi)的注漿量大于或等于預(yù)設(shè)的注漿量閾值時(shí),停止注漿。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全斷面放射型注漿工藝,其特征在于,所述注漿狀態(tài)包括所述全斷面內(nèi)漏漿狀態(tài)和/或串漿狀態(tài);其中,所述當(dāng)所述注漿狀態(tài)滿足第一預(yù)設(shè)條件時(shí),停止注漿包括:
當(dāng)所述注漿管內(nèi)的注漿量大于或等于預(yù)設(shè)的注漿量閾值且所述全斷面內(nèi)未出現(xiàn)所述漏漿狀態(tài)和所述串漿狀態(tài)時(shí),停止注漿。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全斷面放射型注漿工藝,其特征在于,所述注漿狀態(tài)包括所述注漿管內(nèi)的涌水量;其中,所述當(dāng)所述注漿狀態(tài)滿足第一預(yù)設(shè)條件時(shí),停止注漿包括:
當(dāng)所述注漿管內(nèi)的涌水量小于預(yù)設(shè)的流量閾值時(shí),停止注漿。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全斷面放射型注漿工藝,其特征在于,所述強(qiáng)度狀態(tài)滿足第二預(yù)設(shè)條件包括:
所述土質(zhì)狀態(tài)包括土質(zhì)疏松和/或所述填充狀態(tài)包括所述全斷面內(nèi)存在空洞。
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