[發(fā)明專利]截面的繪制方法、裝置、設(shè)備及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110522936.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-05-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113282983A | 公開(公告)日: | 2021-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭亞鵬;鄒敏勇;汪威;楊光武;何浩;萬田保 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中鐵大橋勘測(cè)設(shè)計(jì)院集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F30/13 | 分類號(hào): | G06F30/13 |
| 代理公司: | 武漢智權(quán)專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 牛晶晶 |
| 地址: | 430056 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 截面 繪制 方法 裝置 設(shè)備 可讀 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種截面的繪制方法,其特征在于,包括以下步驟:
獲取目標(biāo)截面的特征參數(shù);
基于命令流定義規(guī)則以及所述目標(biāo)截面的特征參數(shù),生成截面自動(dòng)繪制命令流;
通過命令流解釋器將所述截面自動(dòng)繪制命令流轉(zhuǎn)換成繪制指令;
執(zhí)行所述繪制指令,生成所述目標(biāo)截面。
2.如權(quán)利要求1所述的截面的繪制方法,其特征在于,所述獲取目標(biāo)截面的特征參數(shù)的步驟包括:
根據(jù)目標(biāo)截面的形狀,獲取目標(biāo)截面的關(guān)鍵特征參數(shù)并推導(dǎo)出相應(yīng)的數(shù)學(xué)公式;
根據(jù)關(guān)鍵特征參數(shù)以及數(shù)學(xué)公式,計(jì)算出次要特征參數(shù)。
3.如權(quán)利要求1所述的截面的繪制方法,其特征在于,在所述獲取目標(biāo)截面的特征參數(shù)的步驟之前,還包括:
設(shè)置命令流定義規(guī)則,所述命令流定義規(guī)則包括:判斷語句、循環(huán)語句、數(shù)學(xué)函數(shù)、變量定義以及自定義的變量。
4.如權(quán)利要求3所述的截面的繪制方法,其特征在于,所述數(shù)學(xué)函數(shù)包括運(yùn)算符、絕對(duì)值、開方;
所述變量定義包括雙精度浮點(diǎn)數(shù)類型、表示文本的數(shù)據(jù)類型;
所述自定義的變量包括移動(dòng)繪圖起點(diǎn)的函數(shù),連續(xù)繪制直線的函數(shù),標(biāo)明特征關(guān)鍵參數(shù)的函數(shù)。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的截面的繪制方法,其特征在于,
所述目標(biāo)截面包括三角形截面、矩形截面和/或梯形截面。
6.一種截面的繪制裝置,其特征在于,所述截面的繪制裝置包括:
獲取模塊,用于獲取目標(biāo)截面的特征參數(shù);
生成模塊,用于基于命令流定義規(guī)則以及所述目標(biāo)截面的特征參數(shù),生成截面自動(dòng)繪制命令流;
轉(zhuǎn)換模塊,用于通過命令流解釋器將所述截面自動(dòng)繪制命令流轉(zhuǎn)換成繪制指令;
執(zhí)行模塊,用于執(zhí)行所述繪制指令,生成所述目標(biāo)截面。
7.如權(quán)利要求6所述的截面的繪制裝置,其特征在于,獲取模塊,具體用于:
根據(jù)目標(biāo)截面的形狀,獲取目標(biāo)截面的關(guān)鍵特征參數(shù)并推導(dǎo)出相應(yīng)的數(shù)學(xué)公式;
根據(jù)關(guān)鍵特征參數(shù)以及數(shù)學(xué)公式,計(jì)算出次要特征參數(shù)。
8.如權(quán)利要求6所述的截面的繪制裝置,其特征在于,截面的繪制裝置還包括設(shè)置模塊,用于:
設(shè)置命令流定義規(guī)則,所述命令流定義規(guī)則包括:判斷語句、循環(huán)語句、數(shù)學(xué)函數(shù)、變量定義以及自定義的變量。
9.一種截面的繪制設(shè)備,其特征在于,所述截面的繪制設(shè)備包括處理器、存儲(chǔ)器、以及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器上并可被所述處理器執(zhí)行的截面的繪制程序,其中所述截面的繪制程序被所述處理器執(zhí)行時(shí),實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的截面的繪制方法的步驟。
10.一種可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于,所述可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)有截面的繪制程序,其中所述截面的繪制程序被處理器執(zhí)行時(shí),實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的截面的繪制方法的步驟。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中鐵大橋勘測(cè)設(shè)計(jì)院集團(tuán)有限公司,未經(jīng)中鐵大橋勘測(cè)設(shè)計(jì)院集團(tuán)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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