[發(fā)明專利]一種高模量ETFE薄膜及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110522652.1 | 申請日： | 2021-05-13 |
| 公開（公告）號： | CN113150341A | 公開（公告）日： | 2021-07-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 曹厚寶;楊云霞;郝子坤;鄭淑娜 | 申請（專利權(quán)）人： | 日氟榮高分子材料（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C08J5/18 | 分類號： | C08J5/18;C08L23/08;C08L33/16;C08K9/06;C08K3/22;C08K3/36;C08K3/34;C08K5/13;C08K5/526;C08K5/18 |
| 代理公司： | 上海元好知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31323 | 代理人： | 賈慧琴;包姝晴 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 高模量 etfe 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種高模量ETFE薄膜，其特征在于，該薄膜包含如下以質(zhì)量份數(shù)計的材料：
乙烯-四氟乙烯共聚物粉末：100份
增塑劑：5-20份
表面處理劑：1-3份
納米填料：1-5份
抗氧劑：0.5-2份；
其中，所述的增塑劑選擇聚甲基丙烯酸全氟庚基甲酯；所述的表面處理劑為分子量大于300的含氟硅烷偶聯(lián)劑，所述的納米填料是指無機納米粒子，呈球形，D90粒徑＜300nm，包含納米氧化鋅、納米二氧化硅、納米氧化鋁、納米滑石粉、納米云母、納米蒙脫土中的任意一種或任意兩種以上的組合。
2.如權(quán)利要求1所述的高模量ETFE薄膜，其特征在于，所述的乙烯-四氟乙烯共聚物粉末的堆積密度為1-3g/ml，熔融指數(shù)為3-40g/10min，熔點為210-250℃。
3.如權(quán)利要求1所述的高模量ETFE薄膜，其特征在于，所述的乙烯-四氟乙烯共聚物的熔融指數(shù)為10-20g/10min。
4.如權(quán)利要求1所述的高模量ETFE薄膜，其特征在于，所述的表面處理劑為全氟硅烷偶聯(lián)劑。
5.如權(quán)利要求1所述的高模量ETFE薄膜，其特征在于，所述的表面處理劑選擇全氟癸基三乙氧基硅烷、全氟癸基三甲氧基硅烷、全氟辛基三乙氧基硅烷、全氟辛基三乙氧基硅烷中的任意一種。
6.如權(quán)利要求1所述的高模量ETFE薄膜，其特征在于，所述的納米填料的D90粒徑為50-200nm。
7.如權(quán)利要求1所述的高模量ETFE薄膜，其特征在于，所述的納米填料包含納米氧化鋅、納米二氧化硅、納米氧化鋁、納米滑石粉、納米云母、納米蒙脫土中的任意一種或任意兩種以上的組合。
8.一種根據(jù)權(quán)利要求1-7中任意一項所述的高模量ETFE薄膜的制備方法，其特征在于，該方法包含如下步驟：
步驟1，按權(quán)利要求1-7中任意一項所述的薄膜配方稱取乙烯-四氟乙烯共聚物粉末、增塑劑、表面處理劑、納米填料及抗氧劑；
步驟2，采用高混機將納米填料、表面處理劑和抗氧劑進行均勻混合；
步驟3，將步驟2混合的物料與乙烯-四氟乙烯共聚物粉末和增塑劑進行混合后，一起投入雙螺桿擠出造粒機進行造粒；
步驟4，將造粒所得的粒子投入到中空吹塑機或流延機中，制得所需要厚度的薄膜，薄膜厚度為10-300μm。
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