[發明專利]勞厄衍射圖譜中識別同一衍射峰所劈裂衍射亞峰的方法有效
| 申請號: | 202110520233.4 | 申請日: | 2021-05-12 |
| 公開(公告)號: | CN113325015B | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發明(設計)人: | 陳凱;寇嘉偉 | 申請(專利權)人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | G01N23/2055 | 分類號: | G01N23/2055 |
| 代理公司: | 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人: | 覃婧嬋 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 衍射 圖譜 識別 同一 劈裂 方法 | ||
公開了一種勞厄衍射圖譜中識別同一衍射峰所劈裂衍射亞峰的方法,方法包括以下步驟:在勞厄衍射圖譜中尋找衍射亞峰并計算衍射亞峰的積分強度,將衍射亞峰標記為未歸類衍射亞峰;將在未歸類衍射亞峰中積分強度最大的衍射亞峰加入序列L;對序列L中的所有衍射亞峰Pi,根據各衍射亞峰Pi的積分強度,計算各衍射亞峰Pi各自對應的臨界偏差距離為εi,在所有不屬于序列L的未歸類衍射亞峰中,尋找與序列L中的任一衍射亞峰Pi的偏差距離Δε小于衍射亞峰Pi對應臨界偏差距離εi的衍射亞峰,并將其加入序列L;將序列L的所有的衍射亞峰定義為同一衍射峰所劈裂出的衍射亞峰,將序列L的所有衍射亞峰重新標記為已歸類衍射亞峰。
技術領域
本發明屬于X射線衍射圖譜分析領域,特別是一種勞厄衍射圖譜中識別同一衍射峰所劈裂衍射亞峰的方法。
背景技術
作為一種高效的材料表征手段,X射線勞厄衍射被廣泛用于多種材料的表征?;趧诙蜓苌鋱D譜,能夠通過分析計算得到材料的取向、組成相和應變等各種信息。由于勞厄衍射原理簡單,在進行衍射實驗時無需轉動樣品、X射線光源或探測器的空間位置,從而能夠實現勞厄圖譜的快速采集,相比其他相似的表征手段,在速度上具有極大的優勢。而在對勞厄衍射圖譜進行標定后,通過對衍射峰位置的回歸擬合,可以求解包括三維晶體取向,二階應力應變張量等信息。使用諸如傳統的X射線衍射技術、電子衍射技術等方法,都無法實現同時對這些材料信息的高精度表征。進而在材料表征領域,勞厄衍射有其不可替代的優勢。
由于勞厄衍射的高角分辨率,有較大變形的實驗材料所獲得的衍射峰往往會劈裂成多個衍射亞峰。公知的在勞厄衍射圖譜上尋峰的方法此時尋到的實際上就是衍射峰劈裂得到的多個衍射亞峰。在后續的對衍射亞峰的標定中,由于衍射亞峰實際上是一個衍射峰劈裂而來,且數量眾多,會極大地干擾標定過程,標定過程往往會延長至少一倍以上,且常常會出現無法標定和標定錯誤的情況。對于一般的個人電腦,以現有的算法和商用化的軟件,標定一張劈裂嚴重的石英的勞厄衍射圖譜往往耗時會長達數分鐘。而對于同樣實驗條件下,在沒有變形的石英晶體上獲得的勞厄衍射圖譜,其標定時間往往僅有數秒。因此,如果可以自動化地識別同一個衍射峰所劈裂的衍射亞峰,并將其作為一個整體進行標定,可以大幅提高現有標定方法對于存在劈裂的衍射圖譜的適用性。考慮到在實際實驗中,多數材料都是存在變形的,識別同一衍射峰所劈裂的衍射亞峰對于提高衍射圖譜標定分析效率十分重要。
在背景技術部分中公開的上述信息僅僅用于增強對本發明背景的理解,因此可能包含不構成在本國中本領域普通技術人員公知的現有技術的信息。
發明內容
針對現有技術中存在的問題,本發明提出一種勞厄衍射圖譜中識別同一衍射峰所劈裂衍射亞峰的方法,提前處理存在劈裂的勞厄衍射圖譜,將劈裂自同一衍射峰的衍射亞峰視為一個衍射峰進行標定,可以極大地降低勞厄衍射圖譜分析的計算量,以大幅提高分析效率。
本發明的目的是通過以下技術方案予以實現:
一種勞厄衍射圖譜中識別同一衍射峰所劈裂衍射亞峰的方法包括以下步驟:
第一步驟中,在勞厄衍射圖譜中尋找衍射亞峰并計算所述衍射亞峰的積分強度,將所述衍射亞峰標記為未歸類衍射亞峰;
第二步驟中,輸入角度常量ε0。定義空序列L,將所述序列L中衍射亞峰記為Pi,其中i=1,2,3…n,n為所述序列L中衍射亞峰的數量;
第三步驟中,將在所述未歸類衍射亞峰中積分強度最大的衍射亞峰加入序列L;
第四步驟中,對所述序列L中的所有衍射亞峰Pi,根據所述各衍射亞峰Pi的積分強度,計算所述各衍射亞峰Pi各自對應的臨界偏差距離εi,其中i=1,2,3…n,n為所述序列L中衍射亞峰的數量;
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