[發(fā)明專利]一種全α相鉭涂層的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110517827.X
• 申請(qǐng)日: 2021-05-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113235060B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-01-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳漢賓;李忠盛;吳護(hù)林;叢大龍;黃安畏;楊九州;陳大軍;李立;張昭林;付揚(yáng)帆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)兵器工業(yè)第五九研究所
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/16
• 代理公司: 重慶晶智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 50229
• 代理人: 李靖

1.一種全α相鉭涂層的制備方法，其特征在于：以鉭作為濺射靶材，基體材料加熱后，在氣流量為100~200sccm/min的氬氣形成的0.6~0.95MPa工作壓力下，所述，用霍爾電源對(duì)基體材料表面進(jìn)行轟擊，然后調(diào)節(jié)基體材料正對(duì)靶材，加入直流濺射電流14~25A，待靶材起弧穩(wěn)定后，在基體表面加入直流偏壓40~80V，偏電流為60~90A。

2.如權(quán)利要求1所述的一種全α相鉭涂層的制備方法，其特征在于：所述霍爾電源電流為2~6A，時(shí)間為10~20min。

3.如權(quán)利要求1所述的一種全α相鉭涂層的制備方法，其特征在于：所述鉭靶材與基體材料的間距為20~105mm。

4.如權(quán)利要求1所述的一種全α相鉭涂層的制備方法，其特征在于：所述基體材料加熱至50~200℃，保溫時(shí)間不低于30min。

5.一種全α相鉭涂層的制備方法，其特征在于，按如下步驟進(jìn)行：

步驟一：采用噴60目細(xì)砂或800目以上砂紙打磨處理基體材料，并用酒精清洗；

步驟二：將基體材料固定，與靶材保持20~105mm，抽真空至真空度不高于3×10^-3pa；

步驟三：將真空室溫度升至50~200℃，保溫30min以上，同時(shí)以120~200sccm/min的流速通入氬氣，調(diào)節(jié)氣體壓強(qiáng)為0.7~0.8Pa；

步驟四：調(diào)整基體材料正對(duì)霍爾電源，開(kāi)啟霍爾電流為2~6A，保持10~20min，然后調(diào)節(jié)基體材料正對(duì)靶材，在靶材上加入濺射直流電流14~25A，在基體材料上加入直流偏壓40~80V，偏電流為60~90A；

步驟五：沉積完成后，關(guān)閉偏壓、偏電流、濺射直流電流和氬氣，開(kāi)啟冷卻水系統(tǒng)，待真空室溫度降至80℃以下后，關(guān)閉真空系統(tǒng)和冷卻水系統(tǒng)，冷卻至室溫后取件。