[發明專利]用于金剛石薄膜磁成像裝置的微波天線及制作方法

在審

• 申請號: 202110511015.4
• 申請日: 2021-05-11
• 公開（公告）號: CN113281683A
• 公開（公告）日: 2021-08-20
• 發明（設計）人: 趙龍;趙博文;王鑫;仇茹嘉;楊海濤;謝佳;柯艷國;高博;汪玉;王麗君;陳凡;李圓智;陳嘉;羅大程
• 申請（專利權）人: 國網安徽省電力有限公司電力科學研究院;安徽省國盛量子科技有限公司;國家電網有限公司
• 主分類號: G01R33/00
• 分類號: G01R33/00;G01R33/032;G01R29/10;H01Q1/22;H01Q1/36;H05K3/00;H05K3/10
• 代理公司: 北京國林貿知識產權代理有限公司 11001
• 代理人: 唐維寧;李瑾

1.一種用于金剛石薄膜磁成像裝置的微波天線，包括金剛石薄膜，其特征是：

所述金剛石薄膜設置有一對正負電極，正負電極分別設置在金剛石薄膜的兩端；

所述金剛石薄膜的背面固定設置有微波天線，微波天線為材質是銅或銀的絲線，絲線的兩端分別與正負電極連接；

所述絲線的數量為2條或2條以上；2條以上的絲線平行設置，相鄰2條絲線之間的距離相等。

2.根據權利要求1所述金剛石薄膜磁成像裝置的微波天線，其特征是：所述金剛石薄膜的背面設置有掩膜。

3.根據權利要求1-2任一所述金剛石薄膜磁成像裝置的微波天線，其特征是：所述金剛石薄膜的正面設置有增透膜，增透膜的成分是氟化鈣。

4.一種權利要求1所述金剛石薄膜磁成像裝置的微波天線的制作方法，其步驟是：

A、清洗金剛石薄膜表面，

首先，用酸溶液清洗，

之后，用丙酮溶液清洗；

B、在金剛石薄膜的背面制備掩膜，

在金剛石薄膜的背面除嵌入絲線的縫隙以外處鍍膜；之后將銅或銀注入掩膜的縫隙中形成絲線；

C、在金剛石薄膜的正面鍍增透膜。

5.根據權利要求4所述微波天線的制作方法，其特征是：所述步驟B中，在金剛石薄膜背面制備掩膜的步驟如下，

B1、調配掩膜膠，

調配聚甲基丙烯酸甲酯試劑用作金剛石薄膜的掩膜膠；

B2、將制備好的金剛石薄膜置于勻膠機上，利用真空吸附功能將金剛石薄膜固定，在金剛石薄膜表面滴上聚甲基丙烯酸甲酯試劑；

啟動已設定轉速和時間的勻膠機，金剛石薄膜的背面形成均勻的掩膜；

B3、使用電子束光刻機進行掩膜處理。

6.根據權利要求5所述微波天線的制作方法，其特征是：所述步驟B3中掩膜處理的步驟如下，

b1、通過計算機導入設計的掩膜圖樣；

b2、將金剛石薄膜移至加熱板，加熱溫度180°，加熱時長6分鐘，將聚甲基丙烯酸甲酯掩膜膠固定成型；

b3、使用電子束曝光設備對圖樣位置定位曝光，再將曝光后的金剛石薄膜先放入顯影液中浸泡ｌ分鐘，之后再放入定影液中浸泡20秒；

b4、從定影液中取出金剛石薄膜，使用低流速氮氣槍吹干；

b5、使用透射反射顯微鏡對金剛石薄膜表層成像檢測，掩膜制作完成。

7.根據權利要求5所述微波天線的制作方法，其特征是：在所述步驟B2中，在金剛石薄膜表面滴1ml聚甲基丙烯酸甲酯試劑。