[發明專利]一種具有隱形微結構的眼鏡片

有效

• 申請號: 202110507447.8
• 申請日: 2021-05-10
• 公開（公告）號: CN113253481B
• 公開（公告）日: 2022-11-15
• 發明（設計）人: 任建鋒;黃啟泰;倪穎;顏蒙;李春琦;李林峰
• 申請（專利權）人: 蘇州大學
• 主分類號: G02C7/02
• 分類號: G02C7/02;G02B3/08
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 陶海鋒

1.一種具有隱形微結構的眼鏡片，具有物體側表面和眼側表面，其包括第一屈光區域，具有基于矯正眼睛的屈光不正用的第一屈光力；和第二屈光區域，具有與所述第一屈光力不同的屈光力，并且具有將物體成像在除了眼睛的視網膜以外的位置上以抑制眼睛的屈光不正的發展的功能，其特征在于：所述第二屈光區域由分布在眼側表面的多個圓形的次區域構成，每個次區域的直徑為2mm～6mm，每個次區域具有多個環形刻蝕凹槽，刻蝕凹槽的寬度為30～100微米，刻蝕凹槽的分布及深度使次區域形成微透鏡結構且提供第二屈光力；

所述次區域的結構由下列步驟確定：

(1) 根據鏡片折射率n，前后表面曲率半徑r₁、r₂，主焦距F，焦面距離d，計算獲得次區域的等效曲率半徑r，其中主焦距F是對應第一屈光區域的主焦面的焦距，焦面距離d是主焦面和對應第二屈光區域的次焦面之間的距離；

(2) 根據次區域的直徑和等效曲率半徑r，進行次區域的環帶劃分，方法是：

a. 先在次區域所在曲面上采用類菲涅爾波帶片方式，按照相位改變2π或者π進行劃分，以獲得3～5個環帶；

b. 如果相位劃分單元為2π，則需要以改變π進行二值化，大于π的設定為基礎面，小于π的區域刻蝕掉π相位深度；如果相位劃分單元為π，則需要以改變π/2進行二值化，大于π/2的設定為基礎面，小于π/2的區域刻蝕掉π/2相位深度；

c. 對刻蝕寬度進行調整，使刻蝕凹槽的寬度為30～100微米，完成次區域的環帶劃分。

2.根據權利要求1所述的具有隱形微結構的眼鏡片，其特征在于：在所述次區域分布的范圍內，第一屈光區域和第二屈光區域形成混合區域，其中，由次區域構成的第二屈光區域的面積為該混合區域總面積的20%～60%。

3.根據權利要求2所述的具有隱形微結構的眼鏡片，其特征在于：由次區域構成的第二屈光區域的面積為該混合區域總面積的30%～40%。

4.根據權利要求2所述的具有隱形微結構的眼鏡片，其特征在于：所述次區域在所述混合區域中均勻分布。

5.根據權利要求1所述的具有隱形微結構的眼鏡片，其特征在于：所述眼側表面為球面，所述物體側表面為球面、非球面或漸進表面。