[發明專利]漸變色薄膜及其制備方法與應用

有效

• 申請號: 202110506404.8
• 申請日: 2021-05-10
• 公開（公告）號: CN113403593B
• 公開（公告）日: 2023-02-21
• 發明（設計）人: 胡良云;王士敏;何云富;趙克;何春榮;古海裕;朱澤力
• 申請（專利權）人: 深圳萊寶高科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 黃志云

1.一種漸變色薄膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：提供基底，在所述基底的表面進行鍍膜處理，形成具有梯度厚度的單層的漸變鍍膜層，重復進行多次鍍膜處理，形成漸變鍍膜復合層，所述漸變色薄膜還包括保護底層，所述保護底層層疊結合于所述基底和所述漸變鍍膜復合層之間；得到漸變色薄膜；

其中，所述鍍膜處理為磁控濺射鍍膜處理，且所述磁控濺射鍍膜處理的工藝為：提供靶材，基底的傳輸速度為0.2 m/min~0.6 m/min；真空度為0.8×10^-3 ~1.0×10^-3 Pa；氣體流量為110~150 sccm，且所述氣體流量為勻速遞增或勻速遞減的氣體流量；功率為2~11 kW；鍍膜時間為15~20分鐘；且，所述勻速遞增的遞增速度為1~15 sccm/min；所述勻速遞減的遞減速度為1~15 sccm/min；

其中，所述保護底層采用勻速的氣體流量在所述基底的表面進行磁控濺射鍍膜處理制備得到。

2.根據權利要求1所述的漸變色薄膜的制備方法，其特征在于，控制氣體流量為110~150 sccm，形成的所述單層的漸變鍍膜層的對應厚度為20~40納米。

3.根據權利要求1或2所述的漸變色薄膜的制備方法制備得到的漸變色薄膜，其特征在于，所述漸變色薄膜包括基底，在所述基底的表面層疊結合漸變鍍膜復合層，其中，所述漸變鍍膜復合層具有梯度厚度；所述漸變色薄膜還包括保護底層，所述保護底層層疊結合于所述基底和所述漸變鍍膜復合層之間；

且，所述漸變鍍膜復合層的厚度為200~400納米，且所述漸變鍍膜復合層包括5~11層單層的漸變鍍膜層；所述基底的厚度為10~30微米；所述保護底層的厚度為5~10納米。

4.根據權利要求3所述的漸變色薄膜，其特征在于，所述基底選自PET薄膜、PVDF薄膜、PVC薄膜、PP薄膜、PES薄膜中的任意一種。