[發明專利]用于生成磁場的方法和設備

有效

• 申請號: 202110506070.4
• 申請日: 2016-11-07
• 公開（公告）號: CN113192718B
• 公開（公告）日: 2023-05-12
• 發明（設計）人: 托馬斯·A·丹尼爾;拉里·斯坦博
• 申請（專利權）人: 帕拉尼奇有限公司
• 主分類號: H01F7/02
• 分類號: H01F7/02;H01F7/06;H01F6/00
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 張娜;李榮勝

1.一種磁裝置，包括：

第一磁場生成器，其被配置成生成第一磁場模式，所述第一磁場模式包括第一極性的第一磁場、均為第二極性且位于所述第一磁場的任一側上的第二磁場和第三磁場，

第二磁場生成器，其與所述第一磁場生成器串聯耦合并被配置成生成與所述第一磁場模式實質上相同的第二磁場模式，

其中，所述第一磁場模式和所述第二磁場模式形成以第二極性-第一極性-第二極性-第二極性-第一極性-第二極性的順序取向的組合磁場模式，并且

其中，所述第一磁場生成器和所述第二磁場生成器中的至少一個包括：

基座，所述基座包括上表面、下表面和夾在所述上表面和所述下表面之間的內壁和外壁，其中，所述上表面包括由所述內壁的上邊緣限定的第一開口，所述下表面包括由所述內壁的下邊緣限定的第二開口；并且所述基座還包括圍繞所述基座的內壁定位的一組磁體放置位置，所述一組磁體放置位置中的每個磁體放置位置與所述一組磁體放置位置中的其他磁體放置位置間隔開距離d；以及

被放置為覆蓋所述內壁的一部分的一組磁體，其中，每個磁體被放置為使得連接所述磁體的北極和南極的所述磁體的軸線相對于所述上表面和所述下表面形成一角度，所述角度在0度和90度之間，

其中，所述第一極性的第一磁場實質上形成在所述基座內的所述上表面和所述下表面之間，所述第二極性的第二磁場從所述基座的第一開口向外形成，并且所述第二極性的第三磁場從所述基座的第二開口向外形成并形成在所述第一磁場的相對側，并且

其中，所述一組磁體中的每個磁體具有寬度，所述一組磁體中的每個磁體的寬度大于將所述一組磁體放置位置中的每個磁體放置位置間隔開的所述距離d。

2.根據權利要求1所述的磁裝置，其中，所述第一極性是磁北，并且所述第二極性是磁南。

3.根據權利要求1所述的磁裝置，其中，所述第一極性是磁南，并且所述第二極性是磁北。

4.根據權利要求1所述的磁裝置，其中，所述第一磁場生成器和所述第二磁場生成器中的每一個包括：

基座，所述基座包括上表面、下表面和夾在所述上表面和所述下表面之間的內壁和外壁，其中，所述上表面包括由所述內壁的上邊緣限定的第一開口，所述下表面包括由所述內壁的下邊緣限定的第二開口；以及

被放置為覆蓋所述內壁的一部分的一組磁體，其中，每個磁體被放置為使得連接所述磁體的北極和南極的所述磁體的軸線相對于所述上表面和所述下表面形成一角度，所述角度在0度和90度之間。

5.根據權利要求1所述的磁裝置，其中，所述一組磁體放置位置是在所述基座的內壁內的一組凹陷位置。

6.根據權利要求1所述的磁裝置，其中，所述一組磁體放置位置是所述基座的內壁的表面上的位置。

7.根據權利要求1所述的磁裝置，其中，位于所述內壁中或周圍的所述一組磁體中的每個磁體具有梯形、圓形、方形和/或三角形的幾何形狀。

8.根據權利要求1所述的磁裝置，其中，所述一組磁體包括兩個或更多個磁體。

9.根據權利要求1所述的磁裝置，還包括一個或多個附加磁場生成器，其與所述第一磁場生成器和所述第二磁場生成器串聯耦合并被配置為生成與所述第一磁場模式和所述第二磁場模式實質上相同的一個或多個附加磁場模式。

10.根據權利要求9所述的磁裝置，其中，所述第一磁場生成器、所述第二磁場生成器和所述一個或多個附加磁場生成器形成限定預定的組合場模式的陣列，所述陣列被配置為通過所述組合場模式在預定的路徑中推進磁性物體或電磁物體。

11.根據權利要求9所述的磁裝置，其中，所述第一磁場生成器、所述第二磁場生成器和所述一個或多個附加磁場生成器形成具有中央旋轉軸的圓形陣列，所述磁裝置還包括與所述軸相關聯并被配置為被沿圓形路徑推進以使所述軸旋轉的至少一個電磁物體。