[發明專利]壓力控制方法、壓力控制裝置及半導體工藝設備

有效

• 申請號: 202110505268.0
• 申請日: 2021-05-10
• 公開（公告）號: CN113110632B
• 公開（公告）日: 2023-09-05
• 發明（設計）人: 鄭文寧;趙迪;王蒙
• 申請（專利權）人: 北京七星華創流量計有限公司
• 主分類號: G05D16/20
• 分類號: G05D16/20
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;王婷

1.一種半導體工藝設備的壓力控制方法，其特征在于，包括：

在所述半導體工藝設備中的氣體流通系統發生變化后，確定變化后的所述氣體流通系統的慣性特征值；其中，所述氣體流通系統發生變化包括腔室體積改變、氣路切換、氣路長短發生變化以及真空泵的排氣能力改變和更換氣體流通系統；

根據預設的對應關系確定變化后的所述氣體流通系統的所述慣性特征值對應的修正系數，所述修正系數為慣性系數In；

采用所述修正系數對預設的壓力控制算法進行修正；

其中，所述慣性特征值為所述氣體流通系統以預設流量排氣或進氣時所述氣體流通系統中氣體壓力的變化速率，所述半導體工藝設備采用所述壓力控制算法對所述氣體流通系統中的氣體壓力進行控制，使其趨近于預設的目標氣體壓力；

所述根據預設的對應關系確定變化后的所述氣體流通系統的所述慣性特征值對應的修正系數，包括：

預先測出將所述氣體流通系統的壓力變化速率的曲線矯正至趨近S0曲線所需的慣性系數In，以得到系數存儲表；所述系數存儲表中記錄有多個慣性特征值范圍對應的慣性系數In；其中，

所述S0曲線為所述氣體流通系統的壓力變化速率的理想曲線，所述S0曲線所示情況的所述慣性特征值對應的所述慣性系數In為1；大于所述S0曲線所示情況的所述慣性特征值對應的所述慣性系數In小于1；小于所述S0曲線所示情況的所述慣性特征值對應的所述慣性系數In大于1；

根據所述慣性特征值和所述系數存儲表獲取所述慣性系數In。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用所述壓力控制算法對所述氣體流通系統中的氣體壓力進行控制，包括；

實時測量所述氣體流通系統中的氣體壓力；

計算所述測量得到的氣體壓力與所述目標氣體壓力的差值；

根據所述差值，基于所述壓力控制算法計算所述氣體流通系統中的壓力調節閥的開度調整量；

根據所述開度調整量調整所述壓力調節閥的開度。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，在所述確定變化后的所述氣體流通系統的慣性特征值之前，還包括：

采用未修正的所述壓力控制算法對所述氣體流通系統中的氣體壓力進行控制；

判斷所述差值是否大于預設的差值閾值且持續時長大于預設時長，若是，則執行所述確定變化后的所述氣體流通系統的慣性特征值的步驟，若否，則持續采用未修正的所述壓力控制算法對所述氣體流通系統中的氣體壓力進行控制。

4.根據權利要求1-3任一項所述的方法，其特征在于，所述壓力控制算法為比例積分微分算法；

所述采用所述修正系數對預設的壓力控制算法進行修正，包括：

將所述比例積分微分算法中的比例系數與所述修正系數相乘，得到修正后的比例系數。