[發明專利]一種鋯基復合拋光液及其制備方法在審
| 申請號: | 202110499207.8 | 申請日: | 2021-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN113174205A | 公開(公告)日: | 2021-07-27 |
| 發明(設計)人: | 孫何;梅燕;閆建平;徐中挺 | 申請(專利權)人: | 蘇州光控納米材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C09G1/02 | 分類號: | C09G1/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 復合 拋光 及其 制備 方法 | ||
1.一種鋯基復合拋光液,其特征在于,主要由以下重量百分比的組分組成:
研磨劑1~20 wt%;
分散劑0.05~2 wt%;
懸浮劑0.01~1 wt%;
氧化劑0.1~1.5 wt%;
pH調節劑0.1~10 wt%;
其余為去離子水;
其中,研磨劑中氧化鋯的含量占5~15%,其余為氧化鋁、金剛石、氮化硼中的一種或幾種。
2.根據權利要求1所述的一種鋯基復合拋光液,其特征在于,所述研磨劑中氧化鋯的晶型為單斜晶型,粒徑分布D50在50~200 nm,D1002 μm。
3.根據權利要求1所述的一種鋯基復合拋光液,其特征在于,所述研磨劑組分中氧化鋁為α-Al2O3,粒徑分布D50在50~150 nm,D1001 μm。
4.根據權利要求1所述的一種鋯基復合拋光液,其特征在于,所述研磨劑組合中金剛石及氮化硼的粒徑分布D50在20~100 nm,D1000.5 μm。
5.根據權利要求1所述的一種鋯基復合拋光液,其特征在于,所述分散劑為三聚磷酸鈉、六偏磷酸鈉、焦磷酸鈉、聚乙烯吡咯烷酮中的一種或幾種。
6.根據權利要求1所述的一種鋯基復合拋光液,其特征在于,所述懸浮劑為甲基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羧甲基纖維素鈉、聚丙烯酸鈉、黃原膠、海藻酸鈉的一種或幾種。
7.根據權利要求1所述的一種鋯基復合拋光液,其特征在于,所述氧化劑為高氯酸鉀、氯酸鉀、次氯酸鉀、次氯酸鈉中的一種或兩種。
8.根據權利要求1所述的一種鋯基復合拋光液,其特征在于,所述pH調節劑為氫氧化鈉、氫氧化鉀、乙醇胺中的任意一種。
9.根據權利要求1-8任一所述一種鋯基復合拋光液的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
于棒銷式砂磨機中按照比例依次加入研磨劑、分散劑、懸浮劑、氧化劑和去離子水進行研磨分散,棒銷式砂磨機中填充氧化鋯珠,控制其中攪拌棒的線速度在1.5~5 m/s之間;
添加pH調節劑,調節溶液pH值至9~11。
10.根據權利要求9所述的一種鋯基復合拋光液,其特征在于,棒銷式砂磨機中填充的氧化鋯珠的粒徑在0.1~0.5 mm之間。
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