[發明專利]基板處理裝置

在審

• 申請號: 202110495346.3
• 申請日: 2021-05-07
• 公開（公告）號: CN113675110A
• 公開（公告）日: 2021-11-19
• 發明（設計）人: 上山昇太;丸山光昭;大薗啟;中島清次;酒田洋司
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本發明提供一種基板處理裝置。使基板處理裝置的生產率提高。基板處理裝置具備：基板出入部；第1群組的處理部，其對第1狀態的基板進行一系列的處理；第2群組的處理部，其對第1狀態的基板進行與由第1群組的處理部進行的一系列的處理同樣的一系列的處理；第1輸送部，其從基板出入部向第1群組的處理部輸送第1狀態的基板，并從第1群組的處理部向基板出入部輸送利用第1群組的處理部而成為了第2狀態的基板；以及第2輸送部，其從基板出入部向第2群組的處理部輸送第1狀態的基板，并從第2群組的處理部向基板出入部輸送利用第2群組的處理部而成為了第2狀態的基板。

技術領域

本發明涉及一種基板處理裝置。

背景技術

在專利文獻1中公開有一種具備配置在上下方向上的多層的基板處理裝置。對于該基板處理裝置，第1層具備使用預定的處理液而進行基板的處理的第1處理部，第2層具備對基板進行溫度處理的第2處理部。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平10-189420號公報

發明內容

發明要解決的問題

本發明提供一種對生產率的提高有效的基板處理裝置。

用于解決問題的方案

本發明的一技術方案的基板處理裝置具備：基板出入部，其從外部接收第1狀態的基板，并向外部送出第2狀態的基板；第1群組的處理部，其包括進行互不相同的處理的兩個處理部，對所述第1狀態的基板進行用于將所述第1狀態變為所述第2狀態的一系列的處理；第2群組的處理部，其包括進行互不相同的處理的兩個處理部，對所述第1狀態的基板進行與由所述第1群組的處理部進行的一系列的處理同樣的一系列的處理；第1輸送部，其從所述基板出入部向所述第1群組的處理部輸送所述第1狀態的基板，并從所述第1群組的處理部向所述基板出入部輸送利用所述第1群組的處理部而成為了所述第2狀態的基板；以及第2輸送部，其從所述基板出入部向所述第2群組的處理部輸送所述第1狀態的基板，并從所述第2群組的處理部向所述基板出入部輸送利用所述第2群組的處理部而成為了所述第2狀態的基板。

對于上述基板處理裝置，也可以是，所述第1群組的處理部包括也屬于所述第2群組的處理部的共用處理部和不屬于所述第2群組的處理部的獨立處理部，所述共用處理部的生產率比所述獨立處理部的生產率大。

對于上述基板處理裝置，也可以是，所述共用處理部包括進行由所述第1輸送部輸送的基板的檢查和由所述第2輸送部輸送的基板的檢查的檢查單元。

對于上述基板處理裝置，也可以是，所述第1群組的處理部包括也屬于所述第2群組的處理部的第1共用處理部，所述第1共用處理部包括：第1保持單元，其保持由所述第1輸送部輸送的基板；第2保持單元，其在水平方向上配置于與所述第1保持單元的位置不同的位置，保持由所述第2輸送部輸送的基板；以及供液單元，其能夠向保持于所述第1保持單元的基板和保持于所述第2保持單元的基板供給處理液。

對于上述基板處理裝置，也可以是，所述第1群組的處理部還包括也屬于所述第2群組的處理部的第2共用處理部，所述第2共用處理部的至少一部分在所述第1保持單元與所述第2保持單元之間的位置處重疊于所述第1共用處理部之上或之下。

對于上述基板處理裝置，也可以是，所述基板出入部具有：第1收容部和第2收容部，其在水平方向上配置于互不相同的位置；以及基板分配部，其將所述第1狀態的基板收容于所述第1收容部和所述第2收容部中的任一者，所述第1輸送部從所述第1收容部送出所述第1狀態的基板，并向所述第1收容部送入所述第2狀態的基板，所述第2輸送部從所述第2收容部送出所述第1狀態的基板，并向所述第2收容部送入所述第2狀態的基板。