[發(fā)明專利]一種均熱板的蓋板制作方法及均熱板的制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110493982.2 | 申請日: | 2021-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN113281967A | 公開(公告)日: | 2021-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王冬明;孫萬華 | 申請(專利權(quán))人: | 江西展耀微電子有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司: | 廣州德科知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44381 | 代理人: | 李樺;萬振雄 |
| 地址: | 330000 江西省南昌市臨空經(jīng)濟(jì)區(qū)*** | 國省代碼: | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 均熱 蓋板 制作方法 | ||
本發(fā)明公開了一種均熱板的蓋板制作方法及均熱板的制作方法,該方法包括以下步驟:在所述蓋板的第一表面上覆蓋光阻膜;對所述光阻膜進(jìn)行曝光和顯影,使光阻膜上形成第一鏤空圖案和第二鏤空圖案,第一鏤空圖案將氣槽區(qū)對應(yīng)的光阻膜分割為多個第一光阻塊,第二鏤空圖案將液槽區(qū)對應(yīng)的光阻膜分割為多個第二光阻塊,且第一光阻塊的覆蓋面積小于第二光阻塊的覆蓋面積;對蓋板進(jìn)行蝕刻,使第一表面形成第一凸起和第二凸起,進(jìn)一步蝕刻,使第一凸起通過側(cè)蝕作用去除,以使氣槽區(qū)整體凹陷形成氣槽,并使第二凸起保留,以使氣槽與液槽的蝕刻速度接近,使液槽的深度增加,提高了液態(tài)工質(zhì)通道的回流速度,增強(qiáng)了均熱板的散熱功率。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及散熱技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種均熱板的蓋板制作方法及均熱板的制作方法。
背景技術(shù)
隨著均熱板的超薄化(0.25mm~0.35mm)需求越來越高,為了滿足較大的散熱功率(如大于5w的散熱功率),則對氣態(tài)工質(zhì)的擴(kuò)散速度和液態(tài)工質(zhì)的回流速度有了更高的要求。
均熱板通常由兩塊蓋板對合形成,均熱板中的氣道與毛細(xì)液道可以通過在蓋板上蝕刻溝槽來制作。但是,由于氣道的寬度遠(yuǎn)大于單條毛細(xì)液道的寬度,因此氣道的蝕刻速率快于毛細(xì)液道的蝕刻速率,當(dāng)氣道的深度達(dá)到需求時,毛細(xì)液道的深度大約只有氣道深度的1/3,從而導(dǎo)致毛細(xì)液道的毛細(xì)性能大打折扣,使得均熱板無法達(dá)到較大的散熱功率。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實(shí)施例公開了一種均熱板的蓋板制作方法及均熱板的制作方法,能夠提高液態(tài)工質(zhì)的回流速度,從而提高均熱板的散熱功率。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,第一方面,本申請實(shí)施例公開了一種均熱板的蓋板制作方法,所述蓋板的第一表面包括用于形成氣槽的氣槽區(qū)以及用于形成液槽的液槽區(qū),所述方法包括以下步驟:
在所述蓋板的第一表面上覆蓋光阻膜;
對所述光阻膜進(jìn)行曝光和顯影,使所述光阻膜上對應(yīng)所述氣槽區(qū)的位置形成第一鏤空圖案,并在光阻膜上對應(yīng)所述液槽區(qū)的位置形成第二鏤空圖案,所述第一鏤空圖案將所述氣槽區(qū)對應(yīng)的光阻膜分割為多個第一光阻塊,所述第二鏤空圖案將所述液槽區(qū)對應(yīng)的光阻膜分割為多個第二光阻塊,且所述第一光阻塊的覆蓋面積小于所述第二光阻塊的覆蓋面積;
對所述蓋板進(jìn)行蝕刻,使所述第一表面對應(yīng)所述第一鏤空圖案和第二鏤空圖案的區(qū)域腐蝕形成溝槽,使所述第一表面對應(yīng)所述第一光阻塊的區(qū)域形成第一凸起,使所述第一表面對應(yīng)所述第二光阻塊的區(qū)域形成第二凸起,進(jìn)一步蝕刻,使所述第一凸起通過側(cè)蝕作用去除,以使所述氣槽區(qū)整體凹陷形成氣槽,并使所述第二凸起保留,以使相鄰兩所述第二凸起之間形成液槽。
本申請實(shí)施例提供的均熱板的蓋板制作方法,通過曝光和顯影在光阻膜上形成第一鏤空圖案和第二鏤空圖案,第一鏤空圖案將光阻膜上對應(yīng)氣槽區(qū)的部分分割為多個第一光阻塊,第二鏤空圖案將光阻膜上對應(yīng)液槽區(qū)的部分分割為多個第二光阻塊,且第一光阻塊的覆蓋面積小于所述第二光阻塊的覆蓋面積,由此,當(dāng)進(jìn)行蝕刻步驟時,在蓋板上對應(yīng)第一光阻塊形成的第一凸起的體積會小于對應(yīng)第二光阻塊形成的第二凸起的體積,第一凸起的存在可使得在蝕刻過程中進(jìn)入氣槽區(qū)的蝕刻液量減少,進(jìn)而可使氣槽的蝕刻速度減慢,使氣槽與液槽的蝕刻速度接近,進(jìn)一步蝕刻后,第一凸起可通過側(cè)蝕作用去除,因此不會影響氣槽的通氣量,并且可使液槽的深度增加并與氣槽的深度接近,液槽的深度增加能夠增大液槽的毛細(xì)力,從而能夠提高液態(tài)工質(zhì)的回流速度,實(shí)現(xiàn)了均熱板在超薄化的同時具有較大的散熱功率。
在第一方面可能的實(shí)現(xiàn)方式中,所述氣槽區(qū)和所述液槽區(qū)沿第一方向排列,所述第一光阻塊沿所述第一方向的寬度為d1,所述第二光阻塊沿所述第一方向的寬度為d2,d1<d2。
第一光阻塊的寬度和第二光阻塊的寬度滿足以上關(guān)系,可以使得當(dāng)?shù)谝煌蛊鹜ㄟ^側(cè)蝕方式去除后,第二凸起能夠被保留。
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