[發(fā)明專利]一種表面清潔系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110492802.9 | 申請日: | 2021-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN113133723A | 公開(公告)日: | 2021-07-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王旭寧;周偉;岑明;崔衛(wèi)民 | 申請(專利權(quán))人: | 尚科寧家(中國)科技有限公司 |
| 主分類號: | A47L11/283 | 分類號: | A47L11/283;A47L11/40 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310018 浙江省杭州市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 表面 清潔 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明涉及一種表面清潔系統(tǒng),包括具有清潔頭的表面清潔裝置、用于清洗表面清潔裝置的清洗組件,所述清潔頭的底部設(shè)有呈左右分布的兩個可旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤,轉(zhuǎn)盤上設(shè)有擦拭件,所述清潔頭內(nèi)設(shè)有驅(qū)動轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動組件,所述清潔組件包括清潔槽,清潔槽內(nèi)設(shè)有清潔件、清洗液,所述清潔頭放置在清洗槽內(nèi),擦拭件與清洗件抵接,所述清洗槽設(shè)有水平限位件,驅(qū)動組件驅(qū)動擦拭件在清潔件上旋轉(zhuǎn),所述水平限位件與清潔頭配合,以使所述清潔頭在清洗槽內(nèi)水平往復(fù)擺動。采用本技術(shù)方案使得轉(zhuǎn)盤在帶動擦拭件刮蹭清洗時在轉(zhuǎn)盤的水平方向或者徑向方向上也產(chǎn)生有一定的滑移,周向轉(zhuǎn)動清潔與水平滑移清潔相復(fù)合以增強對清潔擦拭件靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域的清洗。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及家用清潔電器領(lǐng)域,尤其涉及一種用于清潔的表面清潔系統(tǒng)。
背景技術(shù)
目前市場上的拖地設(shè)備通常采用轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu),具體為在清潔頭的底部設(shè)置并排設(shè)置的轉(zhuǎn)盤,轉(zhuǎn)盤上設(shè)有與待清潔表面接觸并呈近似形狀的拖布。然而,在完成拖地后需要用戶手工清洗拖布,尤其是遇到臟污程度較高的地面,如不及時清洗拖布則可能導(dǎo)致地面難以清理干凈,而手工清理時需要用手去觸摸臟污的拖布更是一件惱人的事情,況且需要來回手工更換、清潔拖布,還降低了清潔效率。
對此,本申請人的在先申請專利中公開了一種與所述拖地設(shè)備配套使用的清洗桶,通過將表面清潔裝置固定放置在清洗桶中,利用轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動帶動擦拭件在清潔件上以轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動軸為旋轉(zhuǎn)中心旋轉(zhuǎn)刮蹭進行清洗,但是這種清洗方式中,擦拭件靠近旋轉(zhuǎn)中心區(qū)域由于轉(zhuǎn)動路徑較短,導(dǎo)致該區(qū)域的清洗效果相對較外側(cè)區(qū)域的差,影響整體的清洗效果,仍有進一步提升改進的空間。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少部分解決上述技術(shù)問題,提供一種用于拖地設(shè)備的清洗組件。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
一種表面清潔系統(tǒng),包括具有清潔頭的表面清潔裝置、用于清洗表面清潔裝置的清洗組件,所述清潔頭的底部設(shè)有呈左右分布的兩個可旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤,轉(zhuǎn)盤上設(shè)有擦拭件,所述清潔頭內(nèi)設(shè)有驅(qū)動轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動組件,所述清潔組件包括清潔槽,清潔槽內(nèi)設(shè)有清潔件、清洗液,所述清潔頭放置在清洗槽內(nèi),擦拭件與清洗件抵接,所述清洗槽設(shè)有水平限位件,驅(qū)動組件驅(qū)動擦拭件在清潔件上旋轉(zhuǎn),所述水平限位件與清潔頭配合,以使所述清潔頭在清洗槽內(nèi)水平往復(fù)擺動。
進一步的,所述清潔頭包括殼體,所述水平限位件與所述清潔頭的殼體配合,以使所述清潔頭在清洗槽內(nèi)水平往復(fù)擺動。
進一步的,所述水平限位件為所述清洗槽的側(cè)壁。
進一步的,所述水平限位件與所述轉(zhuǎn)盤配合,以使所述清潔頭在清洗槽內(nèi)水平往復(fù)擺動。
進一步的,所述水平限位件為凸臺,所述凸臺從所述清洗槽的前側(cè)壁和后側(cè)壁分別向內(nèi)側(cè)延伸,凸臺上設(shè)有相對設(shè)置的限位面,所述限位面用以限定所述殼體的前后兩側(cè)。
進一步的,所述限位面與殼體之間的間距小于所述轉(zhuǎn)盤與清洗槽在前后方向上的間距。
進一步的,所述清洗槽上還設(shè)有排水口,所述排水口設(shè)于所述凸臺與清洗槽后側(cè)壁的過渡部,且在所述表面清潔裝置的前進清潔方向上轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動方向為相對向內(nèi)。
進一步的,所述清潔件上設(shè)有用以與擦拭件抵接的刮洗部件,所述兩個轉(zhuǎn)盤所對應(yīng)的刮洗部件關(guān)于清潔頭的中軸面非對稱設(shè)置。
進一步的,所述轉(zhuǎn)盤在豎直方向上的投影部分外露于殼體,且所述擦拭件的直徑大于所述轉(zhuǎn)盤的直徑。
進一步的,所述清洗裝置還包括可轉(zhuǎn)動的閥桿,所述閥桿包括驅(qū)動端和從動端,清洗槽的底部設(shè)有排污口,閥桿的從動端設(shè)有用以封閉排水口的閥體,閥桿的驅(qū)動端與拖布抵接,轉(zhuǎn)盤反轉(zhuǎn)時拖布帶動閥桿轉(zhuǎn)動以打開所述排水口。
本技術(shù)方案的有益效果包括:
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