[發明專利]一種無掩膜曝光鏡頭

有效

• 申請號: 202110492486.5
• 申請日: 2021-04-28
• 公開（公告）號: CN113156779B
• 公開（公告）日: 2023-02-28
• 發明（設計）人: 桂立
• 申請（專利權）人: 蘇州賽源光學科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288
• 代理人: 葛燕婷

本發明公開了一種無掩膜曝光鏡頭，包括DMD芯片組件、勻光棒、準直透鏡組、匯聚透鏡、前透鏡組、光闌以及后透鏡組，勻光棒、準直透鏡組、匯聚透鏡以及DMD芯片組件形成照明模組，勻光棒出光面作為照明模組的物面，DMD芯片組件作為照明模組的像面；DMD芯片組件、前透鏡組、光闌以及后透鏡組形成投影模組，DMD芯片組件作為投影模組的物面，無掩膜曝光鏡頭的曝光面作為投影模組的像面，通過上述設計，本發明無掩膜曝光鏡頭曝光面的照度均勻性大于98％。

技術領域

本發明涉及光學鏡頭，尤其是涉及一種微納光刻用無掩膜曝光鏡頭。

背景技術

在微電子、光學、線路板等微加工領域，紫外曝光機具有非常重要的應用。傳統掩膜式曝光機使用的是大尺寸平行紫外光源加掩膜的曝光形式。而目前現有無掩膜曝光機采用的是光源、光源準直系統、DMD芯片以及投影模組的結構。但現有的無掩膜曝光鏡頭曝光面的照度均勻性不好。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本發明的目的之一在于提供一種曝光面的照度均勻性好的無掩膜曝光鏡頭。

本發明的目的之一采用以下技術方案實現：

一種無掩膜曝光鏡頭，包括DMD芯片組件、勻光棒、準直透鏡組、匯聚透鏡、前透鏡組、光闌以及后透鏡組，所述勻光棒、所述準直透鏡組、所述匯聚透鏡以及所述DMD芯片組件形成照明模組，所述勻光棒出光面作為所述照明模組的物面，所述DMD芯片組件作為所述照明模組的像面；所述DMD芯片組件、所述前透鏡組、所述光闌以及所述后透鏡組形成投影模組，所述DMD芯片組件作為所述投影模組的物面，無掩膜曝光鏡頭的曝光面作為所述投影模組的像面。

進一步地，所述準直透鏡組包括依次設置的第一準直透鏡，所述第一準直透鏡為凹凸透鏡；第二準直透鏡，所述第二準直透鏡為雙凸透鏡；第三準直透鏡，所述第三準直透鏡為凸凹透鏡；第四準直透鏡，所述第四準直透鏡為平凸透鏡。

進一步地，所述第一準直透鏡靠近物面為凹面，靠近像面為凸面，凹面的曲率半徑大于凸面的曲率半徑。

進一步地，所述第二準直透鏡靠近物面的曲率半徑大于靠近像面的曲率半徑。

進一步地，所述第三準直透鏡靠近物面為凸面，靠近像面為凹面，凸面的曲率半徑大于凹面的曲率半徑。

進一步地，所述第四準直透鏡靠近物面為平面，靠近像面為凸面。

進一步地，所述匯聚透鏡為雙凸透鏡。

進一步地，所述前透鏡組包括依次設置的第一透鏡，所述第一透鏡為凸凹透鏡；第二透鏡，所述第二透鏡為凸平透鏡；第三透鏡，所述第三透鏡為凸凹透鏡；第四透鏡，所述第四透鏡為平凸透鏡；所述后透鏡組包括依次設置的第五透鏡，所述第五透鏡為凹平透鏡；第六透鏡，所述第六透鏡為凹凸透鏡；第七透鏡，所述第七透鏡為凹凸透鏡；第八透鏡，所述第八透鏡為凸平透鏡；

投影模組透鏡曲率半徑R的范圍如下：

第一透鏡的物側：110mmR140mm，第一透鏡的像側：90mmR120mm；

第二透鏡的物側：30mmR50mm，第二透鏡的像側：無窮大；

第三透鏡的物側：20mmR40mm，第三透鏡的像側：60mmR80mm；

第四透鏡的物側：無窮大，第四透鏡的像側：20mmR35mm；

第五透鏡的物側：10mmR20mm，第五透鏡的像側：無窮大；

第六透鏡的物側：65mmR85mm，第六透鏡的像側：25mmR45mm；

第七透鏡的物側：90mmR115mm，第七透鏡的像側：25mmR35mm；

第八透鏡的物側：85mmR105mm，第八透鏡的像側：無窮大。