[發(fā)明專利]顯示背板、制作方法以及顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110489331.6
• 申請(qǐng)日: 2021-04-29
• 公開（公告）號(hào): CN113284910B
• 公開（公告）日: 2023-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 方金鋼;王慶賀;丁錄科;胡迎賓;張揚(yáng);成軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/12
• 分類號(hào): H01L27/12;H01L21/77;H10K59/12
• 代理公司: 北京風(fēng)雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 安凱

1.一種顯示背板，其特征在于：包括襯底和設(shè)置于所述襯底的薄膜晶體管，所述薄膜晶體管包括有源層、柵極、源極、漏極和層間介質(zhì)層，所述柵極設(shè)置于所述有源層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)，所述層間介質(zhì)層分隔所述柵極、所述源極和所述漏極；

在所述柵極遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)，所述層間介質(zhì)層包括層疊設(shè)置的第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層相對(duì)于所述第一介質(zhì)層遠(yuǎn)離所述襯底；所述第二介質(zhì)層的致密性低于所述第一介質(zhì)層；所述層間介質(zhì)層上設(shè)置有過孔，所述過孔在所述第二介質(zhì)層的部分為濕刻結(jié)構(gòu)，在所述第一介質(zhì)層的部分為干刻結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示背板，其特征在于：所述柵極采用抗氧化金屬制作。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示背板，其特征在于：所述柵極采用易氧化金屬制作，所述層間介質(zhì)層還包括第三介質(zhì)層，所述第三介質(zhì)層相對(duì)于所述第一介質(zhì)成靠近所述襯底，且所述第三介質(zhì)層的致密性低于所述第一介質(zhì)層；所述過孔包括在所述第三介質(zhì)層的干刻結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示背板，其特征在于：所述第三介質(zhì)層和所述第一介質(zhì)層的厚度均小于所述第二介質(zhì)層的厚度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示背板，其特征在于：所述有源層采用金屬氧化物半導(dǎo)體材料制作，所述層間介質(zhì)層采用氧化硅制作。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示背板，其特征在于：所述襯底設(shè)置有金屬遮光層和緩沖層，所述緩沖層相對(duì)于所述金屬遮光層遠(yuǎn)離所述襯底，且相對(duì)于所述有源層靠近所述襯底；

所述緩沖層上設(shè)置有干刻成型的第一過孔，所述第一過孔中設(shè)置有覆蓋所述金屬遮光層的金屬保護(hù)層，所述層間介質(zhì)層設(shè)置有與所述第一過孔連通的第二過孔，所述源極通過所述第二過孔和所述第一過孔連接至所述金屬保護(hù)層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示背板，其特征在于：所述緩沖層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)設(shè)置有半導(dǎo)體層，所述半導(dǎo)體層包括所述有源層，所述金屬保護(hù)層為所述半導(dǎo)體層導(dǎo)體化形成。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示背板，其特征在于：所述緩沖層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)設(shè)置有半導(dǎo)體層，所述半導(dǎo)體層包括所述有源層，所述有源層包括溝道區(qū)以及導(dǎo)體化的源極區(qū)和漏極區(qū)，所述金屬保護(hù)層位于所述源極區(qū)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示背板，其特征在于：所述顯示背板包括存儲(chǔ)電容，所述存儲(chǔ)電容包括層疊設(shè)置的第一電極、第二電極和第三電極，且所述第一電極、所述第二電極和所述第三電極之間相互絕緣。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示背板，其特征在于：所述顯示背板為底發(fā)射結(jié)構(gòu)，所述源極連接有像素電極，所述像素電極和所述襯底之間設(shè)置有彩膜層。

11.一種顯示背板的制作方法，其特征在于，包括：

獲取襯底；

在所述襯底的一側(cè)制作有源層、柵極絕緣層與柵極；

在所述柵極遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)依次沉積第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層的致密性低于所述第一介質(zhì)層；

濕刻所述第二介質(zhì)層，干刻所述第一介質(zhì)層，形成過孔。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制作方法，其特征在于：所述在所述襯底的一側(cè)制作有源層、柵極絕緣層與柵極，包括：

在所述襯底一側(cè)沉積金屬遮光層和覆蓋所述金屬遮光層的緩沖層；

刻蝕所述緩沖層形成露出所述金屬遮光層的第一過孔；

在所述緩沖層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)，制作與所述金屬遮光層相對(duì)的有源層，制作覆蓋所述第一過孔的金屬保護(hù)層。