[發明專利]徑向氣化爐

在審

• 申請號: 202110488827.1
• 申請日: 2021-05-06
• 公開（公告）號: CN115305119A
• 公開（公告）日: 2022-11-08
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 盧玉升
• 主分類號: C10J3/48
• 分類號: C10J3/48;C10J3/50;C10J3/76;C10J3/86;C10J3/84
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• 代理人: 暫無信息

1.一種徑向氣化爐，其特征在于：所述徑向氣化爐包括：

殼體，所述殼體上設有反應氣出口及與氣化反應室外壁連通的第一燒嘴組，所述殼體下部設有熔渣冷卻及排渣系統；所述殼體的底部設有渣、水出口；所述殼體內側設有用于進行氣化反應的氣化反應室；

氣化反應室，所述氣化反應室具有內、外雙壁環形結構；內、外雙壁沿徑向氣化爐軸線周向延伸，在雙壁間形成環形氣化反應室；在氣化反應室內壁內側形成反應氣出口通道，氣化反應室外壁外側與殼體間形成環隙；所述環形氣化反應室內壁在必要時可設置第二燒嘴組；所述環形氣化反應室下部具有敞口，所述敞口為熔渣、反應氣出口，與反應氣出口通道和熔渣冷卻及排渣系統連通；

廢鍋，所述廢鍋為置于氣化反應室內壁構成的反應氣出口通道中的若干換熱器件。

2.根據權利要求1所述的徑向氣化爐，其特征還在于：所述氣化反應室內、外壁均可具有變徑段；所述氣化反應室的內、外壁均為水冷壁；氣化反應室由一或幾個/段水冷壁構成；水冷壁可以是膜式水冷壁、螺旋盤管水冷壁或其它水冷壁的任意一種或其組合。

3.根據權利要求1所述的反應氣出口通道，其特征還在于：反應氣出口通道下部可設有噴淋裝置。

4.根據權利要求1所述的第一燒嘴組，其特征在于：所述第一燒嘴組可設置于殼體頂部或側部區域；所述第一燒嘴組至少設置2-8個燒嘴，且沿氣化反應室周向均勻分布；所述第一燒嘴組在必要時可沿徑向氣化爐軸向增設一組或數組，增設后各燒嘴仍宜沿氣化反應室周向均勻分布。

5.根據權利要求1所述的第一燒嘴組，其特征還在于：所述第一燒嘴組燒嘴的軸線與氣化反應室的外壁切線成一定夾角，同時在氣化反應室軸截面上與氣化反應室軸線成一定夾角且朝統一方向傾斜設置。

6.根據權利要求1所述的第二燒嘴組，其特征在于：所述第二燒嘴組至少設置2-8個燒嘴，且沿氣化反應室周向均勻分布；所述第二燒嘴組可沿徑向氣化爐軸向增設一組或數組，增設后各燒嘴仍宜沿氣化反應室周向均勻分布。

7.根據權利要求1所述的第二燒嘴組，其特征還在于：所述第二燒嘴組燒嘴的軸線與氣化反應室的外壁切線成一定夾角，同時在氣化反應室軸截面上與氣化反應室軸線成一定夾角且朝統一方向傾斜設置；所述第二燒嘴組與第一燒嘴組的軸線宜同向或反向布置。