[發明專利]成槽施工方法在審
| 申請號: | 202110488116.4 | 申請日: | 2021-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN113123388A | 公開(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發明(設計)人: | 宋青杰;于卓偉;周鵬 | 申請(專利權)人: | 北京三一智造科技有限公司 |
| 主分類號: | E02F5/02 | 分類號: | E02F5/02;E02F5/14;E02D5/18;E02D5/34;B02C13/06;B02C13/26 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人: | 馬吉蘭 |
| 地址: | 102206 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 施工 方法 | ||
1.一種成槽施工方法,其特征在于,包括以下步驟:
確定成槽位置;
構筑導墻,以形成導墻槽;
將矩形鉆頭置入所述導墻槽的底部;
利用所述矩形鉆頭產生的等離子體對巖層進行破碎,以形成槽段;
對所述槽段的底部和側壁進行清理;
吊裝鋼筋籠并灌注混凝土。
2.根據權利要求1所述的成槽施工方法,其特征在于,所述矩形鉆頭包括絕緣座(10)、多個高電極(20)及多個低電極(30),多個所述高電極(20)間隔設置在所述絕緣座(10)上,所述絕緣座(10)上設有供液體通過的液體通道,相鄰的兩個所述高電極(20)之間設置一個所述低電極(30),多個所述高電極(20)的外側和多個所述低電極(30)的外側圍成矩形。
3.根據權利要求2所述的成槽施工方法,其特征在于,多個所述高電極(20)的外側和多個所述低電極(30)的外側圍成的矩形的長度和寬度等于或小于所述槽段的長度和寬度。
4.根據權利要求3所述的成槽施工方法,其特征在于,所述槽段的長度和寬度分別是多個所述高電極(20)的外側和多個所述低電極(30)的外側圍成的矩形的長度和寬度的整數倍。
5.根據權利要求2所述的成槽施工方法,其特征在于,所述矩形鉆頭還包括設置在所述絕緣座(10)上的中心高電極(60),多個所述高電極(20)及多個所述低電極(30)圍繞所述中心高電極(60)設置,所述中心高電極(60)具有供液體通過的中心射流孔(61)和側射流孔(62),所述中心射流孔(61)貫穿所述中心高電極(60)的上下表面并與所述液體通道連通,所述側射流孔(62)設置在所述中心高電極(60)的側面上且與所述中心射流孔(61)連通。
6.根據權利要求1所述的成槽施工方法,其特征在于,在利用所述矩形鉆頭產生的等離子體對巖層進行破碎的同時通過水或泥漿或氣體進行清渣。
7.根據權利要求1所述的成槽施工方法,其特征在于,在將矩形鉆頭置入所述導墻槽的底部的步驟和利用所述矩形鉆頭產生的等離子體對巖層進行破碎的步驟之間還包括以下步驟:
利用所述矩形鉆頭產生的等離子體對土層破碎,并通過泥漿進行護壁和清渣;
或者,
利用液壓抓斗對土層進行挖掘,并通過泥漿進行護壁和清渣。
8.根據權利要求7所述的成槽施工方法,其特征在于,在利用所述矩形鉆頭產生的等離子體對巖層進行破碎的步驟之前還包括以下步驟:
在距離成槽位置預設距離的位置處制作泥漿池。
9.根據權利要求7所述的成槽施工方法,其特征在于,在利用所述矩形鉆頭產生的等離子體對巖層進行破碎的步驟之前的步驟中還包括以下步驟:
通過膨潤土、水以及純堿制備泥漿。
10.根據權利要求1所述的成槽施工方法,其特征在于,在確定成槽位置的步驟和構筑導墻的步驟之間還包括以下步驟:
根據成槽位置進行測量放線,以確定成槽位置的中心點和確定導墻的位置。
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