[發(fā)明專利]一種復(fù)合敏感膜及制備方法、氣體傳感器及制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110484717.8
• 申請日: 2021-04-30
• 公開（公告）號: CN113390959B
• 公開（公告）日: 2022-10-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉衛(wèi)華;吳強;卜祥瑞;李雪;李昕;胡龍;韓傳余;王小力
• 申請（專利權(quán)）人: 西安交通大學(xué)
• 主分類號: G01N29/02
• 分類號: G01N29/02;G01N29/22;C23F1/18;C23F1/28
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200
• 代理人: 范巍

1.一種復(fù)合敏感膜，其特征在于，包括二維材料層，以及負載在其上的六氟異丙醇苯胺基功能化的毒氣敏感材料層；

所述毒氣敏感材料層的材料為六氟異丙醇苯胺基功能化的碳納米管、石墨烯、氧化石墨烯或碳納米球；

所述二維材料為利用化學(xué)氣相沉積方法在金屬襯底上制備的多層六方氮化硼或石墨烯；

所述復(fù)合敏感膜的制備方法，包括以下步驟：

步驟1、制備毒氣敏感材料分散液，敏感材料與溶劑的摩爾比為1：50；

步驟2、將步驟1制備的毒氣敏感材料分散液滴加在以金屬為襯底的二維材料表面后進行旋涂，再將得到金屬襯底進行烘干，烘干后在金屬襯底上形成毒氣敏感材料與二維材料堆疊的復(fù)合膜；

步驟3、將步驟2得到金屬襯底進行溶液刻蝕，除去金屬襯底得到復(fù)合敏感膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種復(fù)合敏感膜，其特征在于，所述二維材料層的厚度為5-15nm；毒氣敏感材料層的厚度為200-1000nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合敏感膜，其特征在于，步驟2中所述旋涂的轉(zhuǎn)速在100-500轉(zhuǎn)/分鐘。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合敏感膜，其特征在于，步驟2中所述烘干的溫度50-80℃，熱烘時間為10-30分鐘。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合敏感膜，其特征在于，步驟2所述金屬襯底為銅箔或鎳箔。

6.一種氣體傳感器，其特征在于，該氣體傳感器的測量元件表面裝載有權(quán)利要求1-5任一項的復(fù)合敏感膜。

7.一種權(quán)利要求6所述的氣體傳感器的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟11、根據(jù)測量元件的尺寸對帶有金屬襯底的復(fù)合敏感膜進行整體剪裁；

步驟12、對步驟11得到的金屬襯底進行溶液刻蝕，除去金屬襯底得到復(fù)合敏感膜；

步驟13、采用浸漬提拉法將復(fù)合敏感膜轉(zhuǎn)移到傳感器的測量元件表面。