[發明專利]一種制藥設備低位排水裝置

在審

• 申請號: 202110483466.1
• 申請日: 2021-04-30
• 公開（公告）號: CN113107062A
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發明（設計）人: 歐剛;申世民;彭偉
• 申請（專利權）人: 楚天科技股份有限公司
• 主分類號: E03F1/00
• 分類號: E03F1/00
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008
• 代理人: 戴玲

1.一種制藥設備低位排水裝置，其特征在于：包括機架(1)、臺板罩(2)、臺板(21)和隔離器腔室(3)，所述臺板罩(2)鋪設于臺板(21)上，所述臺板(21)設于機架(1)的頂板(11)上，所述頂板(11)上設有使臺板(21)從一端向另一端傾斜的墊塊(5)，所述墊塊(5)的頂部具有傾斜部，所述臺板(21)支撐在傾斜部上，所述隔離器腔室(3)設于臺板罩(2)上，所述臺板罩(2)構成隔離器腔室(3)的底壁，所述臺板罩(2)的低端設有排水口(41)，所述頂板(11)上設有多個安裝墊塊(9)，各安裝墊塊(9)依次穿過臺板(21)和臺板罩(2)并伸出臺板罩(2)，各安裝墊塊(9)與臺板罩(2)之間密封連接。

2.根據權利要求1所述的制藥設備低位排水裝置，其特征在于：所述墊塊(5)包括第一墊塊(51)和第二墊塊(52)，所述第一墊塊(51)和第二墊塊(52)的頂部分別設有第一傾斜部和第二傾斜部，所述第一墊塊(51)和第二墊塊(52)分設于頂板(11)的兩端，所述第一墊塊(51)的高度大于第二墊塊(52)的高度，所述臺板(21)的兩端分別支撐在第一傾斜部和第二傾斜部上。

3.根據權利要求2所述的制藥設備低位排水裝置，其特征在于：所述臺板(21)的一端支撐在第一傾斜部上，另一端通過搭接臺階與第二墊塊(52)連接，且臺板(21)的頂面與第一傾斜部、第二傾斜部位于同一斜面內。

4.根據權利要求3所述的制藥設備低位排水裝置，其特征在于：所述墊塊(5)還包括第三墊塊(53)，所述第三墊塊(53)的頂部具有第三傾斜部，所述臺板(21)支撐在第三傾斜部上。

5.根據權利要求1至4任意一項所述的制藥設備低位排水裝置，其特征在于：所述隔離器腔室(3)的一端設有集水腔(4)，所述集水腔(4)設于臺板罩(2)的最低端并與隔離器腔室(3)連通，所述集水腔(4)的底壁不高于臺板罩(2)的最低端，所述排水口(41)設在集水腔(4)的底壁上。

6.根據權利要求1至4任意一項所述的制藥設備低位排水裝置，其特征在于：所述頂板(11)上設有立柱安裝墊塊(7)，所述立柱安裝墊塊(7)底部設有第一定位凸部(71)，所述頂板(11)設有可與第一定位凸部(71)配合的第一定位凹口(101)。

7.根據權利要求6所述的制藥設備低位排水裝置，其特征在于：所述立柱安裝墊塊(7)穿過并伸出臺板罩(2)，所述立柱安裝墊塊(7)連接一立柱(8)，所述立柱(8)的底部設有第二定位凸部(81)，所述立柱安裝墊塊(7)設有可與第二定位凸部(81)配合的第二定位凹口(72)。

8.根據權利要求7所述的制藥設備低位排水裝置，其特征在于：所述立柱安裝墊塊(7)與臺板罩(2)之間通過焊接密封；所述立柱(8)與立柱安裝墊塊(7)之間通過密封圈(82)密封。

9.根據權利要求1至4任意一項所述的制藥設備低位排水裝置，其特征在于：所述臺板罩(2)和臺板(21)上對應設有可供多個安裝墊塊(9)穿過的通孔(201)，各安裝墊塊(9)與臺板罩(2)之間通過焊接密封。

10.根據權利要求4所述的制藥設備低位排水裝置，其特征在于：所述臺板(21)與臺板罩(2)通過螺栓連接，所述臺板(21)與第一墊塊(51)、第二墊塊(52)和第三墊塊(53)通過螺栓連接。