[發(fā)明專利]玻璃制品及其制備方法、電子設(shè)備蓋板及電子設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110482626.0
• 申請(qǐng)日: 2021-04-30
• 公開（公告）號(hào): CN113173709A
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盧普飛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東小天才科技有限公司;廣東艾檬電子科技有限公司
• 主分類號(hào): C03C15/00
• 分類號(hào): C03C15/00;C03C15/02;G02F1/1333
• 代理公司: 深圳中一聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414
• 代理人: 田甜

1.玻璃制品，包括玻璃基板以及形成于所述玻璃基板表面的抗眩光結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述抗眩光結(jié)構(gòu)包括形成于所述玻璃基板表面的第一紋理微結(jié)構(gòu)，以及形成于所述第一紋理微結(jié)構(gòu)表面的第二紋理微結(jié)構(gòu)，所述第一紋理微結(jié)構(gòu)包括第一凸部和第一凹部，所述第二紋理微結(jié)構(gòu)包括第二凸部和第二凹部，所述第二凸部的跨度小于所述第一凸部的跨度，且所述第二凹部的跨度小于所述第一凹部的跨度。

2.如權(quán)利要求1所述的玻璃制品，其特征在于，所述第二凸部和所述第二凹部的表面均為平滑曲面；

或者，所述第二凸部和所述第二凹部的表面均為霧面。

3.如權(quán)利要求1所述的玻璃制品，其特征在于，所述第二凹部的跨度小于或等于所述第一凹部的跨度的1/2。

4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的玻璃制品，其特征在于，所述第二凸部的高度小于所述第一凸部的高度；

和/或，所述第二凹部的深度小于所述第一凹部的深度。

5.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的玻璃制品，其特征在于，所述第二凸部的高度小于或等于所述第一凸部的高度的1/2；

和/或，所述第二凹部的深度小于或等于所述第一凹部的深度的1/2。

6.電子設(shè)備蓋板，其特征在于，包括權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的玻璃制品。

7.電子設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求6所述的電子設(shè)備蓋板。

8.權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述玻璃制品的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

表面預(yù)處理；

至少兩次蒙砂處理；其中，第一次蒙砂處理用于制備第一紋理微結(jié)構(gòu)，剩余次蒙砂處理用于制備第二紋理微結(jié)構(gòu)；

清洗處理；

拋光處理，得到玻璃制品。

9.如權(quán)利要求8所述的玻璃制品的制備方法，其特征在于，所述第一次蒙砂處理所用蒙砂蝕刻液包括重量份比為10-15：1-3：4-7：5-8：6-9：3-5的氟化氫銨、氟化鈣、硫酸鉀、氫氧化鈉、水和氟化鈉；

所述剩余次蒙砂處理所用蒙砂蝕刻液包括重量份比為12-18：2-4：6-9：8-10：9-13：4-6的氟化氫銨、氟化鈣、硫酸鉀、氫氧化鈉、水和氟化鈉。

10.如權(quán)利要求9所述的玻璃制品的制備方法，其特征在于，所述至少兩次蒙砂處理中第二次蒙砂處理所用蒙砂蝕刻液包括重量份比為12：2：8：10：12：5的氟化氫銨、氟化鈣、硫酸鉀、氫氧化鈉、水和氟化鈉。

11.如權(quán)利要求10所述的玻璃制品的制備方法，其特征在于，所述蒙砂蝕刻液的制備方法包括以下步驟：

按照各原料的重量份比配料；

將氟化氫銨、氟化鈣、硫酸鉀、氫氧化鈉和水?dāng)嚢枞诤希?/p>

加入氟化鈉，攪拌熟化48-72h。

12.如權(quán)利要求11所述的玻璃制品的制備方法，其特征在于，所述至少兩次蒙砂處理步驟中各次蒙砂處理包括以下步驟：

將玻璃基板放入蒙砂蝕刻液進(jìn)行浸泡；

浸泡60-90s后取出，沖洗干凈。

13.如權(quán)利要求8-12任一項(xiàng)所述的玻璃制品的制備方法，其特征在于，所述玻璃制品的制備方法還包括位于所述表面預(yù)處理步驟之前的覆膜步驟，所述覆膜步驟包括以下步驟：

在玻璃基板中不需要進(jìn)行蝕刻的表面涂覆耐酸油墨。

14.如權(quán)利要求8-12任一項(xiàng)所述的玻璃制品的制備方法，其特征在于，所述表面預(yù)處理步驟包括以下步驟：

用濃度為2-6％的氫氟酸溶液清洗玻璃基板的待蝕刻面，清洗時(shí)長為60-90s；

沖洗干凈。

15.如權(quán)利要求8-12任一項(xiàng)所述的玻璃制品的制備方法，其特征在于，所述拋光處理步驟包括以下步驟：

用濃度為5％-10％的氫氟酸溶液噴淋拋光，噴淋時(shí)長為3-5min。