[發(fā)明專利]光子半導(dǎo)體裝置的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110481460.0
• 申請日: 2021-04-30
• 公開（公告）號: CN113204082B
• 公開（公告）日: 2022-12-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳俊杰;孟懷宇;沈亦晨
• 申請（專利權(quán)）人: 上海曦智科技有限公司
• 主分類號: G02B6/42
• 分類號: G02B6/42;G06N3/067;G06E3/00
• 代理公司: 北京三環(huán)同創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11349
• 代理人: 趙勇;邵毓琴

1.一種光子半導(dǎo)體裝置的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

準(zhǔn)備基板；

在所述基板上通過無源耦合的對位方式安裝一部分光學(xué)器件，其包括在所述基板上安裝第一光學(xué)器件；

在所述基板上通過有源耦合的對位方式安裝剩余部分的光學(xué)器件中的至少一部分光學(xué)器件，其包括在所述基板上安裝第二光學(xué)器件；

其中，安裝第一光學(xué)器件的過程中使用具有導(dǎo)電特性的散熱膠；

安裝第二光學(xué)器件的過程中采用絕緣膠；

其中，所述第一光學(xué)器件與所述第二光學(xué)器件相鄰。

2.如權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，

通過所述無源耦合或所述有源耦合的對位方式安裝的光學(xué)器件中，至少有一個是半導(dǎo)體光學(xué)器件；

所述有源耦合包括至少一次有源耦合工序；

在所述有源耦合工序中，存在：(1)在一個時間段內(nèi)僅移動一個光學(xué)器件進(jìn)行有源耦合，以使該一個光學(xué)器件實(shí)現(xiàn)對位，或(2)在一個時間段內(nèi)，移動兩個以上的光學(xué)器件。

3.如權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，

所述通過無源耦合的對位方式安裝一部分光學(xué)器件，包括采用無源耦合的對位方式安裝PIC芯片、光源組件、棱鏡、透鏡中的一種或多種光學(xué)器件；和/或，

所述通過有源耦合的對位方式安裝剩余部分的光學(xué)器件中的至少一部分光學(xué)器件，包括采用有源耦合的對位方式安裝透鏡、棱鏡中的一種或多種。

4.如權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，

所述通過無源耦合的對位方式安裝一部分光學(xué)器件包括安裝第一PIC芯片、第一光源組件、第一棱鏡中的至少一個，以及所述通過有源耦合的對位方式安裝剩余部分的光學(xué)器件中的至少一部分光學(xué)器件包括安裝第一透鏡；

或

所述通過無源耦合的對位方式安裝一部分光學(xué)器件包括安裝第一PIC芯片、第一光源組件、第一透鏡中的至少一個，以及所述通過有源耦合的對位方式安裝剩余部分的光學(xué)器件中的至少一部分光學(xué)器件包括安裝第一棱鏡。

5.如權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述基板上，通過無源耦合的對位方式安裝附加組件；

或通過所述無源耦合的對位方式安裝的光學(xué)器件中，至少有一個是半導(dǎo)體光學(xué)器件；

或通過所述有源耦合的對位方式安裝的光學(xué)器件中，至少有一個是半導(dǎo)體光學(xué)器件。

6.如權(quán)利要求5所述的制造方法，其特征在于：

通過無源耦合的對位方式安裝所述附加組件包括安裝底板、透鏡底座、制冷器組件中的至少一種。

7.一種光子半導(dǎo)體裝置的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

準(zhǔn)備基板；

在所述基板上安裝第一光學(xué)器件和/或第一附加組件；

在所述基板上安裝第二光學(xué)器件和/或第二附加組件；

所述第一光學(xué)器件和/或第一附加組件與所述第二光學(xué)器件和/或第二附加組件相鄰，安裝第一光學(xué)器件和/或第一附加組件的過程中使用具有導(dǎo)電特性的散熱膠；

安裝第二光學(xué)器件和/或第二附加組件的過程中采用絕緣膠。

8.如權(quán)利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述第一光學(xué)器件、第一附加組件、第二光學(xué)器件、第二附加組件的選取滿足以下一個或多個條件：

(1)，所述第一光學(xué)器件選自光源芯片或PIC芯片；

(2)，所述第一附加組件選自制冷器組件；

(3)，所述第二光學(xué)器件為透鏡；

(4)，所述第二附加組件為透鏡底座。

9.如權(quán)利要求7所述的制造方法，其特征在于，通過無源耦合的對位方式安裝第一光學(xué)器件和/或第一附加組件；和/或，通過有源耦合的對位方式安裝第二光學(xué)器件和/或第二附加組件；和/或，在所述基板上安裝第三光學(xué)器件，所述第三光學(xué)器件包括PIC芯片。

10.一種光子計(jì)算裝置的制造方法，其特征在于，其采用權(quán)利要求1-9中任意一種制造方法制造所述光子計(jì)算裝置；其中，所述基板包含布線結(jié)構(gòu)。