[發明專利]一種防護膜、顯示裝置及防護膜層的制備方法有效
| 申請號: | 202110481151.3 | 申請日: | 2021-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN113212976B | 公開(公告)日: | 2022-12-23 |
| 發明(設計)人: | 張霞 | 申請(專利權)人: | TCL華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | B32B3/30 | 分類號: | B32B3/30;B65D65/40;G09F9/00;C23C16/34;C23C16/40 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 遠明 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防護 顯示裝置 制備 方法 | ||
本申請公開了一種防護膜、顯示裝置及防護膜的制備方法。防護膜包括抗刮層和自清潔層。抗刮層具有凹陷部。自清潔層覆蓋凹陷部,自清潔層具有疏水表面和/或疏油表面。本申請實施例提供的防護膜有利于保持設備表面的清潔以及可以防止設備在日常使用中產生刮痕。
技術領域
本申請涉及顯示技術領域,具體涉及一種防護膜、顯示裝置及防護膜的制備方法。
背景技術
現有的設備在制備完成后,通常增加一層防護膜以防止設備在運輸的過程中受到污染或者刮傷。然而,現有的防護膜在使用的過程中容易受到污染。此外,現有的防護膜的耐刮性能較差,設備的表面容易產生刮痕。
發明內容
本申請的目的在于提供一種防護膜、顯示裝置及防護膜層的制備方法,以解決現有設備的防護膜在使用過程中容易受到污染以及容易產生刮痕的問題。
本申請實施例提供一種防護膜,包括:
抗刮層,所述抗刮層具有凹陷部;
自清潔層,所述自清潔層覆蓋所述凹陷部,所述自清潔層具有疏水表面和/或疏油表面。
在一些實施例中,所述抗刮層還包括多個第一凸起部和多個第二凸起部,多個所述第一凸起部沿第一方向排列,多個所述第二凸起部沿第二方向排列,所述第一凸起部和所述第二凸起部形成網格狀結構,所述第一凸起部和所述第二凸起部圍繞所述凹陷部。
在一些實施例中,在所述第一凸起部垂直于所述第一方向的截面中,所述第一凸起部靠近所述自清潔層的一側的截面寬度小于所述第一凸起部遠離所述自清潔層的一側的截面寬度。
在一些實施例中,所述第一凸起部垂直于所述第一方向的截面的形狀包括三角形、梯形、半圓形中的一種或多種;
所述第二凸起部垂直于所述第二方向的截面的形狀包括三角形、梯形、半圓形中的一種或多種。
在一些實施例中,所述防護膜還包括襯底,所述襯底位于所述抗刮層遠離所述自清潔層的一側,所述凹陷部貫穿所述抗刮層,所述自清潔層與所述襯底連接。
在一些實施例中,所述抗刮層的材料為氮化硅或氧化硅;所述自清潔層表面的材料為含氟納米硅或聚二甲基硅氧烷。
在一些實施例中,所述抗刮層還包括多個陣列排布的抗刮凸起部,相鄰的所述抗刮凸起部之間形成所述凹陷部。
在一些實施例中,所述防護膜還包括襯底,所述防護膜還包括襯底,所述抗刮層設置在所述襯底上,所述凹陷部使所述抗刮層遠離所述襯底的表面凹陷,在所述抗刮凸起部垂直于第一方向的截面中,所述抗刮凸起部遠離所述襯底的一側的截面寬度小于所述抗刮凸起部靠近所述自清潔層的一側的截面寬度。
在一些實施例中,所述凹陷部圍繞所述抗刮凸起部;
在所述抗刮凸起部垂直于第一方向的截面中,所述抗刮凸起部靠近所述自清潔層的一側的截面寬度小于所述抗刮凸起部遠離所述自清潔層的一側的截面寬度。
本申請還提供一種顯示裝置,包括顯示面板,所述顯示裝置還包括如上所述的防護膜,所述防護膜位于所述顯示面板的表面。
在一些實施例中,所述凹陷部貫穿所述抗刮層,所述自清潔層與所述顯示面板連接。
本申請還提供一種防護膜的制備方法,包括:
在襯底上形成抗刮層;
對所述抗刮層進行蝕刻以使所述抗刮層具有凹陷部;
在所述抗刮層上形成自清潔層,所述自清潔層填充所述凹陷部。
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